內容簡介
本書從原子、分子水平闡述表面結構，討論材料表面物理、化學現象以及對技術學科發展的影響，強調基本概念。重點討論表面原子遷移擴散、表面電子結構及表面原子幾何排列這三個基礎內容；把工程中各種表面現象概括為三個主要類型，分別討論了以吸附、催化為代表的氣-固界面，半導體和光電器件中的固-固界面以及以摩擦為代表的運動狀態下接觸界面。同時，分別介紹了幾種最常用的表面分析技術，包括測定表面原子幾何的低能電子衍射（LEED) ，測定表面元素組成的俄歇電子譜（AES) ，鑑別表面元素化學態的X射線光電子譜（XPS) ，以及獲取表面分子結構信息的靜態次級離子質譜（SSIMS) 。介紹這些表面分析技術時，重點討論粒子束與表面相互作用，表面元激發過程及其在表面結構表征中的信息內容，為識譜和分析、理解表面物理、化學問題奠定基礎。
本書可作為物理化學、材料、半導體、催化、摩擦學、光電器件及微納米機械等專業高年級本科生及研究生教材；對於航天、信息、能源、環境、化工及機械等技術學科領域內從事材料表面科學研究的教師、研究人員及工程技術人員，本書也有很好的參考價值。
圖書目錄
第1章 引論
第2章 材料表面原子遷移擴散
第3章 材料表面電子結構
第4章 表面原子幾何結構及其測定--二維結晶學及低能電子衍射
第5章 表面化學元素組成的測定--俄歇電子譜
第6章 表面元素組成及其化學態表征--X射線光電子譜
第7章 材料表面分子結構表征--靜態次級離子質譜
第8章 材料表面氣體吸附與反應
第9章 異質薄膜材料界面
第10章 運動狀態下的接觸界面--摩擦過程界面物理化學
參考文獻
