晶體圖象防偽技術

晶體圖象防偽技術是一種高性能OVD（光學可變圖像）防偽技術，通過巧妙地對反射、擴散和衍射等光學特性進行組合，獲得與通常的全息圖明顯不同的發光方法。

晶體圖像防偽是一種高性能OVD（光學可變圖像）防偽技術，通過巧妙地對反射、擴散和衍射等光學特性進行組合，獲得與通常的全息圖明顯不同的發光方法。
“全息圖”，是指利用雷射，以干涉紋的方式把光的方向和強度記錄在平面材料上所形成的圖像。
OVD（光學可變圖像）是指能呈現各種光學效果如色彩走動和色彩變化等光輝燦爛的光學防偽元素。光變防偽特徵能提供有效保護對抗偽冒及濫用。OVD運用衍射光學結構，能使設計表面在不同的照明度和視覺角度下呈現不同的圖樣、色彩及設計。
晶體圖像防偽技術採用積體電路製造中使用的電子束（EB）繪圖裝置，製成衍射光柵微細圖案的數位化原版，把它作為原模，批量生產浮雕型圖像產品。
晶體圖像防偽技術主要用在（1）對工業品和名牌商品的品牌保護；（2）有價證券、卡和護照的防偽。
晶體圖像防偽技術有如下特點：（1）可以很容易辨別真偽，識辯性高；（2）製造工藝複雜，設備複雜，使造假者望而卻步；（3）可以採用顯微鏡方便地進行精細驗證，不需其他驗證工具。