內容簡介
《固體薄膜材料與製備技術》較全面地介紹了有關薄膜材料制各技術的基礎知識，總結了近年來薄膜材料製備領域的新進展， 並融入了作者多年來在從事薄膜材料研究中所取得的成果。全書共10章，第1章主要介紹了薄膜材料的基本概念、特徵，並扼要介紹了薄膜材料的物性和結構的分析方法。第2章和第3章講述的是有關薄膜製備技術中涉及的基礎知識， 包括真空技術和電漿技術等。第4章和第5章是《固體薄膜材料與製備技術》的重點，著重討論了製備薄膜材料的物理氣相沉積技術和化學氣相沉積技術的基本原理和方法，包括蒸發、濺射、離子束、脈衝雷射和電漿化學氣相沉積技術，以及分子束外延和液相法生長技術等。第6章討論了薄膜材料的厚度和沉積速率的檢測方法。第7～10章則有選擇地介紹了當前國際上研究的幾種熱點薄膜材料的制各和檢測技術，如超低和超高介電常數薄膜、發光薄膜、超硬薄膜、巨磁電阻薄膜等，其目的是使讀者進一步了解薄膜材料的廣泛套用及其發展方向。
圖書目錄
前言
第1章 薄膜的特徵
1.1 薄膜的定義
1.2 表面效應
1.3 薄膜的結構和缺陷
第2章 真空技術基礎
2.1 真空的基本概念
2.2 氣體的動力學描述
2.3 氣體的流動與抽氣
2.4 真空的獲得
2.5 真空的測量
第3章 電漿技術基礎
3.1 電漿的基本概念
3.2 電漿的分類
3.3 低溫電漿的產生
第4章 薄膜的物理氣相沉積
4.1 蒸發沉積
4.2 濺射沉積
4.3 離子束沉積
4.4 脈衝雷射沉積
第5章 化學氣相沉積
5.1 熱化學氣相沉積
5.2 電漿化學氣相沉積
5.3 高密度電漿化學氣相沉積
5.4 其他化學氣相沉積
第6章 膜厚和沉積速率的測量
6.1 光學法
6.2 天平法
6.3 電學方法
6.4 表面粗糙度儀法
第7章 低介電常數薄膜材料
7.1 低介電常數材料的研究背景
7.2 碳基低介電常數薄膜
7.3 矽基低介電常數薄膜
7.4 SiCOH多孔（超）低介電常數材料的製備與性能
第8章 氧化鋅薄膜材料
8.1 氧化鋅薄膜的特性和用途
8.2 氧化鋅薄膜的製備和光致發光譜
第9章 鈦酸鍶鋇鐵電多層薄膜
9.1 鐵電多層薄膜的研究意義
9.2 BaTiO3/Ba0.6Sr0.4 TiO3多層薄膜的介電增強效應
9.3 界面對BaTiO3/SrTio3多層膜的介電學性質的影響
9.4 多層膜的鐵電性能
第10章 矽基顆粒複合發光薄膜
10.1 矽基發光材料研究的意義及歷史
10.2 矽基顆粒複合發光薄膜的製備
10.3 Si-SiO2和Ge-SiO2薄膜的光致發光和電致發光特性
參考文獻
