科研定位
研究所緊密結合國際學科前沿和國家重大戰略需求，以光與物質相互作用為研究對象，主要開展光學計量技術、尖端光學薄膜技術、極紫外與軟X射線及X射線多層膜光學技術、先進成像光學技術、超精密光學製作工藝技術研究，研究所定位於國際前沿性基礎和套用基礎研究以及關鍵技術攻關，為我國光學與光學工程的發展提供前瞻性研究成果並培養高層次科技人才。
學術交流
實驗室開展了多層次的國內外合作與交流，與美、德、法、英、日、俄羅斯與白俄羅斯等國家的10多所大學和研究機構建立了合作關係，現派出留學生3名。
研究方向
光學計量技術：以納米長度標準為套用背景，採用雷射冷卻原子和雷射匯聚原子方法，著重研究可溯源到雷射波長的納米結構製作原理、方法和技術，採用原子力顯微鏡等方法研究納米結構的表征新途徑。
尖端光學薄膜技術：以高強度雷射作為套用背景，採用離子束輔助電子束蒸發方法研製高性能光學薄膜，系統測量光學薄膜的力學、熱學和光學等物理性質，建立高強度雷射與光學薄膜相互作用模型，揭示雷射損傷薄膜的機制，探索新型高性能光學薄膜的設計、製作、表征及套用。
極紫外與軟X射線及X射線多層膜光學技術：以同步輻射、稠密電漿診斷、天文學為套用背景，採用磁控濺射方法研製高性能極紫外與軟X射線及X射線多層膜，系統研究多層膜的微結構、成分與界面狀態等物理化學性質，揭示多層膜巨觀性能與微觀性質的關係，探索新型多層膜的設計、製作、表征及套用。
先進成像光學技術：以稠密電漿診斷和精密光學系統套用為套用背景，系統研究特殊要求光學系統的設計方法，探索光學系統高精密裝校方法與技術，建立先進光學系統表征方法與技術，研製各種套用要求的高性能光學系統。
超精密光學製作工藝技術：針對極紫外與軟X射線及X射線元件與系統的特殊需求，深入開展超光滑和特殊曲面光學元件的加工與性能表征方法與技術，建立新型光學元件加工設備，揭示超光滑與特殊曲面加工工藝的規律，研製出相應的光學元件。
