光敏章

光敏章簡介

光敏章

光敏平面橡膠滲透印章，簡稱光敏章，又稱為平面橡膠印章。光敏印章製作技術是於1998年初從日本引進我國大陸的。該印章具有方便、既印即乾等特點，蓋出印跡具有標準、規範，其製作工藝簡單、快速。