光敏印油

光敏印油

光敏印油指的是光敏印章專用印油,具有印油不易沉降,顏色鮮艷,色密度高的特點;印鑑清晰均勻,不洇紙,滲透速度快,即印即乾,耐高溫、耐低溫,穩定性強,與印墊和印章殼不發生不良反應,並可重複注油的特點。

印油使用方法

光敏印油 光敏印油

使用方法

綜述

自己的印章是不是光敏印章。以免加錯印油。一旦加錯印油這種章就會作廢了。

加油:把印油擠在章面上,讓它自己往下滲透就可以了。還有一種光敏印。外殼表面有個小孔。這種就比較方便了。直接擠在小孔里就可以了。

使用次數少時

在使用前加一點油即可。方法:取下章蓋,讓字面朝上,用少量光敏印油塗抹印章框線、字型和圖片,待油慢慢透入後,根據情況再適量塗抹幾次。.

然後用乾淨的軟布或紙巾擦去多餘的油,則立即可以使用。

使用量大時

從印章的柄下部加油口進行加油,方法:印章正放於桌面,用手拉開柄下部的注油口拉蓋,拿一小瓶印油(如果是大瓶,最好用注射器一類),瓶口尖端對準注油口,一滴滴將印油加入,如果遇到注油口太小印章不能順利加入,可以稍微震動一下印章,讓油自然流入。 光敏印章內一般都有儲油的海綿質體,它會將多餘的油暫時吸收,以後再慢慢向下滲透到光敏墊 。

其他方法

取下光敏墊,放入印油中,字面朝上,印油不要超過光敏墊的厚度,讓光敏墊慢慢吸收印油。如果印章有海綿質體,可以放一些油在裡面。等光敏墊完全充滿印油後,取出放入印章殼。

光敏印油原理

光致抗蝕劑 用於光加工工藝的光敏高分子,通稱光致抗蝕劑(又稱光刻膠),大量用於印刷製版和電子工業的光刻技術中。它的工作原理是受光部分發生交聯,生成難溶性的硬化膜,經加工成負像(負性膠);或者是原來的不溶性膠受光照後變為可溶性的,經加工得正像(正性膠)。  通常用的光致抗蝕劑有:①聚肉桂酸酯型,例如聚乙烯醇肉桂酸酯,由聚乙烯醇和肉桂醯氯在吡啶溶劑中合成,配製的光刻膠稱KPR。在紫外線作用下,肉桂酸酯的雙鍵發生光化學二聚反應,形成交聯,轉變為不溶性物質。KPR是最早用於光刻的一種光致抗蝕劑,通常加入5-硝基苊等作為光敏劑。②丙烯醯基型,其線型聚合物不能得到優良的圖像,所以實用體系都由預聚體和單體組成,同時進行聚合和交聯。通常交聯單體和預聚體是一元或多元的丙烯酸酯、丙烯醯胺和丙烯酸氨基甲酸酯類。例如,由這類單體交聯劑製成的聚酯和尼龍感光樹脂版,已能用來代替銅、鋅凸版。③疊氮型,疊氮化物光解,生成活潑的一價氮化物,很容易偶合或與碳-氫鍵、雙鍵反應。用於光敏樹脂的疊氮化物均為穩定的芳族化合物。雙疊氮化合物是一種光交聯劑(如下式所示),能引起許多高聚物交聯。 例如疊氮-環化橡膠就是一種常用的光致抗蝕劑。④重氮鹽類和鄰偶氮醌型光敏高分子,也是常見的光致抗蝕劑。  光固化塗層和油墨 光敏高分子的另一重要類型。由於它具有不用溶劑,不產生污染,以及固化速率快等優點,近年來發展很快。它們的主要組成:①樹脂或預聚體;②交聯單體(一般為雙或多官能團的丙烯酸酯類);③光引發劑;④顏料或染料。目前以丙烯酸酯型和不飽和聚酯型為主;尤以前者重要。此外,硫醇-烯類光聚合和陽離子開環光聚合體系也是近年來引人注意的體系。  其他功能性的光敏高分子 可根據不同的用途,通過引入相應功能的光敏官能團而製得。例如利用吲哚啉苯並螺吡喃發生可逆的光異構化反應,可以製備光致變色功能高分子。又如咔唑,在光作用下易和電子受體發生電子轉移,可用作高分子光導電材料。再如四溴四碘螢光素,在光作用下通過能量轉移能使氧轉變為單線態氧,可用作高分子型光氧化催化劑等。

優缺點

優點

印跡清晰不變形;即蓋即乾。拿取方便。

缺點

只適用於光敏印章。

不可以在塑膠、玻璃、衣服和金屬上使用。只能用於紙張。

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