內容簡介
中文譯名 | 光刻結構 |
英文原名/注釋 | photo-etched structure |
補充說明
“英漢天文學名詞資料庫”(以下簡稱“天文名詞庫”)是由中國天文學會天文學名詞審定委員會(以下簡稱“名詞委”)編纂和維護的天文學專業名詞資料庫。該資料庫的所有權歸中國天文學會所有。
“光刻結構”是天文學專有名詞。來自中國天文學名詞審定委員會審定發布的天文學專有名詞中文譯名,詞條譯名和中英文解釋數據著作權由天文學名詞委所有。
中文譯名 | 光刻結構 |
英文原名/注釋 | photo-etched structure |
“英漢天文學名詞資料庫”(以下簡稱“天文名詞庫”)是由中國天文學會天文學名詞審定委員會(以下簡稱“名詞委”)編纂和維護的天文學專業名詞資料庫。該資料庫的所有權歸中國天文學會所有。
光刻是平面型電晶體和積體電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化矽)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
基本介紹 光刻流程 準分子技術 極紫外技術 電子束技術光刻(英語:photolithography)工藝是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然後通過刻蝕工...
概述 光刻膠 步驟 優點和缺點光刻加工技術是指加工製作半導體結構及積體電路微圖形結構的關鍵工藝技術,是微細製造領域套用較早並仍被廣泛採用的一類微製造技術。光刻加工原理與印刷技術中的照...
在矽等基體材料上塗覆光致抗蝕劑,然後用極限解析度極高的能量束來通過掩模對光致抗蝕劑層進行曝光。 經顯影后,在光致抗蝕劑層上獲得與掩模圖形相同的及微細的幾...
分束器為達到干涉的效果,相干光必須在匯聚前被分束成兩個及以上數量的光束。 利用DLIP,不同的結構能夠在數秒內直接在基底上被製成,得到大面積上的周期性陣...
基本原理 相干性要求 分束器 套用及用途半導體光刻技術發展已有多半個世紀了,現在它仍保持著強勁的發展態勢,大尺寸、細線寬、高精度、高效率、低成本的IC生產,對半導體設備帶來前所未有的挑戰。
矽片直徑300mm 要適合多代技術的需求 光學曝光 當前曝光的主流技術美國科學家首次釐清了溫度在蘸筆納米光刻技術 中的作用,據此研製出的熱蘸筆納米光刻技術能在物質表面構造大小為20納米的結構。藉助這一技術,科學家們能廉價地...
原理 研發 製造 實驗 用途"蘸筆納米光刻術(Dip-pen n an olithography
一種X光光刻電路技術,用X光照射直接將電路“書寫”在特殊材料上,形成高溫超導微電路。這種產生和控制微小超導結構的技術不僅能帶來全新的低能耗...解釋說,過渡金屬氧化物的微觀結構都很複雜,其中氧原子的微觀排布對材料...