一種電子廢料熔煉渣的水淬設施
技術領域
本實用新型涉及冶煉行業中用於電子廢料處理技術，特別涉及一種電子廢料熔煉渣的水淬設施。
背景技術
隨著電子產品科技的發展和人們生活水平的提高，電子產品生產規模越來越大，電子產品的報廢期大大縮短，所以各種廢舊家電及辦公電器產生的電子垃圾日趨增多。電子廢料中除了含有汞、焊錫、聚氯乙烯、鹵化物阻燃劑等有毒物質外，同時又富含相當數量的金、銀、銅、鉑等金屬。為了回收電子廢料中的有價金屬，目前常用的處理電子廢料的方法有：物理分選方法進行金屬的簡單分類和富集，然後冶煉提純；濕法氰化冶金；火法冶金與濕法相結合。但是，在電子廢料冶煉工程中，產生的熔煉渣的處理一直是一個技術難題。熔煉渣不僅污染了環境，而且浪費了大量資源。
國內外處理熔煉渣基本採用乾渣法和水淬法，乾渣法是為了很好的利用熔煉渣的顯熱資源而正在不斷研究當中的熔煉渣處理方法，但是因環境污染較嚴重、資源利用率低已很少使用，一般只是在事故處理時設定乾渣坑或渣罐出渣。因此，該方法還沒有套用到工業中的報導。對於熔煉渣處理主要採用水淬法，水淬渣可以作為水泥原料，或用於製造渣磚、輕質混凝土砌塊，使資源得到合理的利用。熔煉渣水淬工藝主要由：渣水分離系統、脫水轉鼓、大型濃密機、撈渣機、循環水冷卻系統等組成。傳統的水淬工藝一次投資和運行費用高、工藝流程長、大型設備多，某一設備出現故障時，影響整套水淬設施的運行，進一步的，給冶煉生產帶來了諸多不便，甚至造成停產。
實用新型內容
本實用新型的目的就在於克服現有技術中的不足之處，提供一種安全可靠、工藝流程短、設施簡單、投資和運行成本低的電子廢料熔煉渣水淬處理設施，使水淬處理過程的廢水循環利用，減少熔煉渣水淬的用水量。
為了實現上述目的，本實用新型所採用的技術方案是：一種電子廢料熔煉渣的水淬設施，包括二次池、一次池和沖渣池，所述二次池的一側設定有所述一次池，且所述一次池與所述二次池之間設定有擋牆，所述沖渣池的外側通過沖渣溜槽連線渣溜槽，所述沖渣溜槽與所述渣溜槽連線處的上方安裝有水噴嘴，所述沖渣池的內側通過地溝與所述一次池連通，所述沖渣池與所述一次池之間設定有瀝水堆場，所述二次池的另一側安裝有渣漿栗，所述渣漿栗通過水管與水噴嘴連線。進一步，所述水噴嘴噴出壓力為0.2~0.4MPa。進一步，所述沖渣池的底部向地溝一側傾斜，傾斜坡度為i=0.10~0.15。
進一步，所述瀝水堆場的底部向地溝一側傾斜，傾斜坡度為i=0.004~0.008。
本實用新型具有以下優點：熔煉渣處理設施工藝簡單、設備量小、布置緊湊，最新的工藝在最小的空間內實現了連續生產，較其他渣處理方法極大地節省了占地面積。同時，設施結構簡單，操作使用方便，能實現水淬處理過程的廢水循環利用，可大大減少熔煉渣水淬的用水量。熔煉渣在沖渣池中快速冷卻，在實現渣水分離的過程中熔煉渣靠自身的物理熱量將多餘的水分進一步蒸發；同時，瀝水堆場設計有坡度，該瀝水堆場可以將渣水混合物進一步脫水。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖。
圖1 一次渣池結構示意圖其中，1、二次池，2、一次池，3、地溝，4、瀝水堆場，5、沖渣池，6、沖渣溜槽，7、水噴嘴，8、渣溜槽，9、水管，10、渣漿栗，11、擋牆。
具體實施方式
以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步描述。參見圖1，一種電子廢料熔煉渣的水淬設施，包括二次池1、一次池2和沖渣池5，二次池1的一側設定有一次池2，且一次池2與二次池1之間設定有擋牆11，沖渣池5的外側通過沖渣溜槽6連線渣溜槽8，沖渣溜槽6與渣溜槽8連線處的上方安裝有水噴嘴7，水噴嘴7噴出壓力為0.2~0.4MPa；沖渣池5的底部向地溝3—側傾斜，傾斜坡度為i=0.10~0.15，沖渣池5的內側通過地溝3與一次池2連通，沖渣池5與一次池2之間設定有瀝水堆場4，瀝水堆場4的底部向地溝3—側傾斜，傾斜坡度為i=0.004~0.008。二次池1的另一側安裝有渣漿栗10，渣漿栗10通過水管9與水噴嘴7連線。
在對廢線路板熔煉後的渣進行水淬時，熔煉渣被安裝在渣溜槽8端部的水噴嘴7噴射沖渣循環水快速冷卻水淬，產生的水淬渣和沖渣水再經水噴嘴7下部的沖渣溜槽6流入沖渣池5，然後由裝載機將渣水混合物運輸至瀝水堆場4。同時沖渣池5的底部向地溝3—側傾斜，傾斜坡度為i=0.13；使沖渣水經沖渣池5的底部由地溝3回流到一次池2內，一次池2與二次池1中間設定擋牆11，當一次池2中的液面達到一定高度後，一次池2中的沖渣水溢流到二次池1中，爐渣則沉積在一次池2中，二次池1內的沖渣水由渣漿栗10經水管9輸送到水噴嘴7，沖渣水形成閉路循環運行。
本實用新型的工作流程包括：熔煉渣經過渣溜槽8時，渣漿栗10將二次池1內的沖渣循環水通過水管9輸送到水噴嘴7，而後產生的水淬渣和沖渣水經沖渣溜槽6流入沖渣池5，然後將渣水混合物運輸至瀝水堆場4，同時沖渣池5內的沖渣水由地溝3回流到一次池2內，可大大減少熔煉渣水淬的用水量。渣漿栗10將二次池1內的沖渣循環水通過水管9輸送到水噴嘴7時，水噴嘴7噴出壓力為0.2~0.4MPa，將渣溜槽8流出的熔煉渣高壓高速沖碎成3~5mm的水淬渣，而後水淬渣和沖渣水經沖渣溜槽6流入沖渣池5，沖渣池5內的沖渣水由地溝3回流到一次池2內，實現水淬處理過程的廢水循環利用。沖渣池5設定有一定的坡度（i=0.13左右），沖渣池5內的最低處與地溝3連通，使沖渣水自流入地溝3，而後從地溝3回流至一次池2；—次池2與二次池1中間設定一堵擋牆11，當一次池2中的液面達到一定高度後，一次池2中的沖渣水溢流到二次池1中，並且沖渣水中的細渣可以在一次池2中進行沉澱，減小沖渣循環水對渣漿栗10的損壞。一次池2與二次池1具有210m容量。在設備的材質選擇上，充分考慮工作環境及使用壽命等綜合因素，一次池2、二次池1、沖渣池5、瀝水堆場4以及地溝3均採用無腐蝕的混凝土砌築，並對整套裝置的結構部分實施了防腐處理。
