高純氫氟酸
英文名 hydrofluoric acid,分子式HF,分子量 20. 01。為無色透明液體 ,相對密度1. 15～1 . 18,沸點 112 . 2 ℃,在空氣中發煙 ,有刺激性氣味 ,劇毒。能與一般金屬、 金屬氧化物以及氫氧化物發生反應 ,生成各種鹽類。腐蝕性極強 ,能侵蝕玻璃和矽酸鹽而生成氣態的四氟化矽。易溶於水、醇 ,難溶於其他有機溶劑。高純氫氟酸為強酸性清洗、 腐蝕劑 ,可與硝酸、冰醋酸、 雙氧水及氫氧化銨等配置使用 。
製備方法
一、精餾法
二、蒸餾法
三、亞沸蒸餾
四、減壓蒸餾
五、氣體吸收
以上提純技術各有特性，各有所長。如亞沸蒸餾技術只能用於製備量少的產品，氣體吸收技術可以用於大規模的生產。另外，由於氫氟酸的強腐蝕性，採用蒸餾工藝溫度較高時腐蝕會更嚴重，因此所使用的蒸餾設備一般需用鉑、金、銀等貴金屬或聚四氟乙烯等抗腐蝕性能力較強的材料來製造。
生產工藝
將無水氫氟酸（國家標準制定者：多氟多化工股份有限公司）經化學預處理後，進入精餾塔通過精餾操作，得到的氟化氫氣體經冷卻後，在吸收塔中用超純水吸收，並採用控制噴淋密度、氣液比等方法使電子級氫氟酸進一步純化，隨後經0.2μm以下超濾工序，最後在密閉潔淨環境條件下( 百級以下) 進行灌裝得到最終產品———電子級氫氟酸。
質量標準
目前，因各微電子生產企業對電子級氫氟酸要求的標準不同，可將其劃分為四個檔次：
1 低檔產品，用於>1.2μmIC工藝技術的製作；
2 中低檔產品，適用於0.8～1.2μmIC工藝技術的製作；
3 中高檔產品，適用於0.2～0.6μmic工藝技術的製作；
4 高檔產品（UPss），適用於0.09～0.2μm和<0.09μm IC工藝技術的製作。
用途
套用於積體電路 ( I C)和超大規模積體電路 (VLSI)晶片的清洗和腐蝕 ,是微電子行業製作過程中的關鍵性基礎化工材料之一 ,還可用作分析試劑和製備高純度的含氟化學品。目前 ,在國內基本上是作為蝕刻劑和清洗劑用於微電子行業 ,其他方面用量較少。
行業發展
自中國實現無水氫氟酸的工業化生產以後，為中國進入高純電子級氫氟酸提供了原料保障，以多氟多、巨化集團為首的行業領軍企業帶領中國氟化工進入了新的歷史時代。
據悉，目前，全球具備最高品質UPS電子級氫氟酸生產線的企業共有8家，多氟多是國內第一家。多氟多的萬噸電子級氫氟酸項目正式投產後，每年可實現銷售收入14800萬元，利稅9674萬元。事實上，此前，多氟多已憑藉這一項目，獲得了工信部給予的產業調整振興項目扶持資金1039萬元。
