內容簡介
《雷達目標散射特性測試與成像診斷》對於雷達、電磁場與微波技術、微波成像、微波測量、隱身及反隱身技術、軍用目標特性等領域的科學研究人員、工程技術人員、高校教師和研究生等，具有較好的參考價值。
圖書目錄
第1章 緒論
1.1 雷達目標散射診斷的套用背景
1.2 診斷依據及關鍵指標
1.2.1 多散射中心模型
1.2.2 關鍵指標
1.3 目前採用的方法
第2章 步進頻率RCS測試系統及測試方法
2.1 RCS測試系統簡介
2.2 矩形暗室的設計
2.2.1 暗室結構設計
2.2.2 吸波材料的選取
2.3 步進頻率RCS測試系統
2.4 測試方法
2.4.1 測試參數設定
2.4.2 測試步驟
2.5 測試中的關鍵問題
2.5.1 遠場條件
2.5.2 測試環境分析
2.5.3 對消技術
2.5.4 測試中的信號處理技術
2.5.5 時域門的選取
2.5.6 定標
2.5.7最大不模糊距離及降採樣
2.5.8 測試精度
2.5.9 低頻段測試技術
2.5.10 全極化測試及校準技術
2.6 實測數據分析
2.6.1 縮比模型1
2.6.2 縮比模型2
參考文獻
第3章 基於中場區測試的RCS外推技術
3.1 遠場條件的定義
3.1.1 外場靜態測試
3.1.2 室內緊縮場測量
3.2 中場區的定義
3.3 中場散射外推算法1——等效口徑二次輻射算法
3.3.1 加權FFT外推算法
3.3.2 卷積外推算法
3.3.3 加權FFT算法與卷積外推算法的關係與比較
3.4 中場散射外推算法2——基於合成孔徑成像的RCS外推技術
3.4.1 基於合成孔徑成像的RCS外推技術原理
3.4.2 基於合成孔徑成像的RCS外推技術的仿真與實驗
3.5 等效口徑二次輻射與基於成像外推技術的特點比較
參考文獻
第4章 高解析度轉台二維成像
4.1 轉台二維成像模型
4.2 成像處理算法
4.2.1 距離一都卜勒（R-D）算法
4.2.2 卷積一反投影（B-P）算法
4.2.3 兩種算法的比較
4.3 成像參數選取
4.4 關鍵問題
4.4.1 目標之間的干涉
4.4.2 距離衰減修正
4.4.3 解析度
4.5 實測數據分析
參考文獻
第5章 INSAR/INISAR成像診斷
5.1 干涉測高原理
5.2 INSAR成像系統與實驗
5.3 INISAR成像系統與實驗
參考文獻
第6章 散射特性近場成像測試
6.1 散射近場測量的研究背景、基礎理論
6.1.1 研究背景
6.1.2 近場測量的理論
6.1.3 套用領域
6.2 散射成像信號的特點和成像理論方法
6.2.1 遠場散射信號
6.2.2 近場散射信號
6.2.3傅立葉光學的研究方法
6.3 近場散射特性一維成像
6.3.1 近場方位成像的特點及方法
6.3.2 近場方位成像原理
6.3.3 近場方位成像算法及譜分析
6.3.4 一維縱向成像方法與算法
6.3.5 一維成像數值仿真實驗
6.4 近場散射特性二維成像
6.4.1 近場冠狀面成像原理
6.4.2 近場冠狀面成像算法與譜分析
6.4.3 近場橫斷面成像原理
6.4.4 近場橫斷面成像算法與譜分析
6.4.5 關鍵參數的確定
6.4.6 二維成像數值仿真實驗
6.5 近場三維成像
6.5.1 近場三維成像原理
6.5.2 三維成像算法的建立與譜分析
6.5.3 三維插值問題的提出與解決方法
6.5.4 三維成像數值仿真實驗
6.6 暗室近場成像系統方案
6.6.1 系統設計
6.6.2 暗室近場成像系統構架及測試方法
6.7 暗室成像系統實驗
6.7.1 單點目標的成像實驗(一個金屬球散射目標)
6.7.2 成像幅度精度驗證實驗
(兩個不同金屬球散射目標)
6.7.3 多散射中心複雜目標成像實驗
(包含多個金屬球的散射目標)
6.7.4 非金屬目標的成像實驗
(不規則形狀的木質支架)
6.7.5 成像位置精度三維像驗證實驗
(5個金屬球散射目標)
6.8 小結
附錄A 傅立葉變換的成像套用
附錄B 矢量的標量轉化
附錄C 有限掃描截斷分析(空間頻率和
空間頻率的局域化)
參考文獻
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