清洗原理
無機氣體被激發為等離子態→氣相物質被吸附在固體表面→被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子→產物分子解析形成氣相→反應殘餘物脫離表面。
清洗特點
1、離子清洗機不分處理對象的基材類型，均可進行處理，如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等，並可實現整體和局部以及複雜結構的清洗。
2、容易採用數控技術，自動化程度高。
3、具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高。
4、正確的電漿清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得到保證。
5、在真空中進行，不污染環境，保證清洗表面不被二次污染。
清洗分類性能
離子清洗機主要通過反應類型和激發頻率兩個方面來分類。
反應類型分類
電漿與固體表面發生反應可以分為物理反應（離子轟擊）和化學反應。
物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走。物理反應為主的電漿清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優點：本身不發生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純淨性。缺點：對表面產生了很大的損害，會產生很大的熱效應，對被清洗表面的各種不同物質選擇性差，腐蝕速度較低。典型的電漿物理清洗工藝是氬氣電漿清洗。
化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發性的物質，再由真空泵吸走揮發性的物質。
化學反應為主的電漿清洗的優點：清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點：表面產生氧化物。典型的電漿化學清洗工藝是氧氣電漿清洗。通過電漿產生的氧自由基非常活潑，容易與碳氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發物，去除表面的污染物。
激發頻率分類
等離子態的密度和激發頻率的關係式： nc=1.2425×108v2 ，其中nc為等離子態密度（cm-3），v為激發頻（Hz）。 電漿激發頻率分為：頻率為40kHz的電漿為超聲電漿，13.56MHz的電漿為射頻電漿，2.45GHz的電漿為微波電漿。
超聲電漿的自偏壓為1000V左右，射頻電漿的自偏壓為250V左右，微波電漿的自偏壓很低，只有幾十伏。超聲電漿發生的反應為物理反應，射頻電漿發生的反應既有物理反應又有化學反應，微波電漿發生的反應為化學反應。
