概述
主要是用於清洗零件,電路板,小型的部件。主要套用于軍工,航天,汽車等行業。
使用方法
1.物理清洗法
①機械清洗法:清掃器和刮刀清理法、鑽管清洗法、噴丸清洗法。
②水利清洗法:低壓水力清洗(低壓清洗的壓力為196-686千帕,大約2-7公斤力/平方厘米,等於0.2-0.7Mpa)。
③高壓水射流設備清洗:高壓清洗的壓力為4900千帕,大約50公斤力/平方厘米,等於5Mpa。這種情況方法也叫高壓水射流法、高壓清洗機。
2.電子清洗法防垢、除垢原理是:利用高頻電場改變水的分子結構,使其防垢和除垢。當水通過高頻電場時,其分子物理結構發生了變化,原來的締合鏈狀大分wyt_dsry子,斷裂成單個水分子,水中鹽類的正負離子被單個水分子包圍,運動速度降低,有效碰撞次數減少,靜電引力下降,無法在受熱壁式管面上結構,從而達到防垢目的。同時由於水分子偶極矩增大,使其與鹽的正負離子(水垢分子吸合能力增大,使受熱面或管壁上的水垢變得鬆軟,容易脫落,產生了除垢的效果。
3.靜電防垢、除垢與電子除垢一樣,也是通過改變水分子狀態來實現防垢、除垢目的的。只不過後者是利用靜電場的作用,而不是電子作用。其機理是水分子具有極性(也稱偶極子),當水偶極子通過靜電場時,每個水偶極子將按正負有序地連續排列。如水中含有溶解的鹽類,其正負離子將被水偶極子包圍,也按正負順序排列於水偶極子群中,不能自己的運動,因而也就不能靠近管(器)壁,並進而沉積於管(器)壁上形成水垢。同時,水中釋放的氧,可使管壁產生一層極薄的氧化層,可以防止管(器)壁腐蝕。
4.化學清洗法:利用化學藥劑使表面污染或覆蓋層與其發生化學反應而被除去,如對垢層的酸洗、鹼洗等。為使基材在化學清洗中不受腐蝕或使腐蝕率控制在允許範圍內,通常在化學清洗液中要加入適量的緩蝕劑和起活化、滲透、潤濕作用的添加劑。方法:浸泡法、循環法、運轉中清洗法也叫不停車化學清洗法。
選擇方法
工業清洗基本按照您的零件材質,工藝要求來決定選用水基清洗還是溶劑清洗。一般清洗潔淨度要求不高的話,就選用水基清洗。如果對於清洗潔淨度要求很高,並且您的零件有很多細縫和盲孔的複雜幾何體的話,應該需要使用溶劑清洗。溶劑清洗的話,您需要選用環保的全封閉金屬零件清洗機,不管是四氯乙烯溶劑還是碳氫溶劑都是VOC溶劑,也就是都是揮發性有機溶劑,按照環保標準,都必須使用單槽的全封閉設備。目前市場上的多槽式的設備都是開放式系統,因為在槽缸之間轉換時是充分暴露在大氣中的,這是不安全和環保的設備。