超霸光亮鍍銅工藝
工藝特點
創新一代超高濃縮合成配方，鍍層填平度高達95%；鍍層極為光亮，柔韌性好；
鍍液分散能力好，填平能力十分優秀；
鍍層沒有針孔，具有良好的耐蝕性能；
鍍液穩定，容易操作控制，維護成本低；
適用於鋼鐵件、鋅合金壓鑄件、以及塑膠件的電鍍中，經過必要的前處理後（例如鍍鹼銅），作為經濟實用的光亮中間鍍層。
鍍液組成及操作條件
鍍液組成及工藝條件 | 適用範圍 | 一般開缸用量 |
硫酸銅 | 180－220克/升 | 200克/升 |
純硫酸 | 30－40克/升 | 33毫升/升 |
氯離子 | 70－140毫克/升 | 100毫克/升 |
開缸劑810Mu | 6－8毫升/升 | 6毫升/升 |
主光劑810A | 0.4－0.6毫升/升 | 0.5毫升/升 |
主光劑810B | 0.3－0.5毫升/升 | 0.3毫升/升 |
溫度 | 20－35℃ | 24－28℃ |
陰極電流密度 | 1－6安培/平方分米 | 3－5安培/平方分米 |
陽極電流密度 | 0.5－2.5安培/平方分米 | 0.5－2.5安培/平方分米 |
陽極 | 磷銅角（0.03-0.06%磷） | 磷銅角（0.03－0.06%磷） |
電壓 | 1.5－6伏（V） | 1.5－6伏（V） |
攪拌方法 | 空氣或機械攪拌 | 空氣或機械攪拌 |
鍍液配製方法
在預備槽中加入二分之一的水，加熱至40－50℃；所用水的氯離子含量應低於70毫克/升，加入所需的硫酸銅，攪拌使其完全溶解。
加入2.0克/升的活性碳，攪拌一個小時以上，然後用過濾泵將鍍液濾入清潔的電鍍槽中，加水至接近水位。
慢慢加入所需的純硫酸，同時進行強烈的攪拌，以保持鍍液的溫度不超過60℃。
將鍍液冷卻至25℃後；再根據鍍液中氯離子的含量，添加鹽酸或氯化鈉，以使氯離子的含量達到標準值。
最後加入以上的各種添加劑，以0.5安培/平方分米的電流電解大約2小時，便可以開始電鍍。
設備要求
鍍槽：內襯聚氯乙烯或其它各種塑膠的鋼槽或者塑膠槽。冷卻設備：鍍液溫度過高，不但會使光亮劑的消耗量增大，還會導致低電位區的光亮度降低；所以配備合適的冷卻設備是十分必要的。
循環:過濾：鍍液中的浮游物如灰塵、油脂等均會導致鍍層粗糙、產生針孔或降低光亮度；鍍液最好採用連續性循環過濾，過濾泵最少在一小時內將鍍液過濾四次。
添加劑的作用及補充
開缸劑810Mu：開缸劑不足時，會在高、中電位區出現疏鬆的條紋狀鍍層；開缸劑過量時，低電區會產生霧狀鍍層。主光劑810A： A含量過低時，整個電流密度區的鍍層填平度下降；A過量時，低電位區的填平度會突然變差，形成明顯的分界。
主光劑810B： B含量不足時，鍍層極易燒焦；而B過量時，會引起低電位區嚴重起霧。
氯離子的作用及影響：氯離子在光亮酸性鍍銅工藝中具有極為重要的作用，適量的氯離子可以幫助添加劑發揮效果，鍍出緻密、光亮、平滑的鍍層。如果氯離子含量過低，鍍層在高、中電位區易出現起伏的條狀，同時在低電位區有霧狀鍍層出現；如果氯離子含量過高時，鍍層的光亮度和填平度會顯著下降，陽極表面還會出現灰白色的薄膜而發生鈍化。
添加劑的消耗量
810MU：30－40毫升/千安培小時810A： 60－80毫升/千安培小時
810B： 30－40毫升/千安培小時
