袁成剛

畢業後，分配到中國振華電子工業公司國營第四四三三廠工作，主要從事半導體積體電路和混合積體電路方面的科研工作。 論文發表的代表性論文有：《半導體熱敏電阻的溫敏特性在對數放大器中的套用》《陽極氧化鋁工藝在薄膜混合積體電路中的套用》《 待發表的論文有：《FX3290BiMOS雙電壓比較器的研製》《鋁導帶薄膜混合積體電路工藝的研究》等。

人物簡介

在校期間，連年被評為校級三好學生。畢業後，分配到中國振華電子工業公司國營第四四三三廠工作，主要從事半導體積體電路和混合積體電路方面的科研工作。進廠後，他致力於光刻工藝的研究，採用直接光刻工藝代替機械掩模蒸發工藝，進行分步光刻選擇刻蝕來形成薄膜無源網路，其最小間距或頻寬可達10um左右，使集成度大大提高，適用於大批量生產，為後來的高尖端新產品的研製和生產奠定了基礎。曾參與該廠軍工器件FX0032超高速FET運算放大器、FX0002電流放大器、FX8510功率運算放大器、FH8048對數放大器、FX3290BiMOS雙電壓比較器等的研製，並取得成功。

論文

發表的代表性論文有：《半導體熱敏電阻的溫敏特性在對數放大器中的套用》《陽極氧化鋁工藝在薄膜混合積體電路中的套用》《 Ni－Cr薄膜電阻在對數放大器中的套用》等。待發表的論文有：《FX3290BiMOS雙電壓比較器的研製》《鋁導帶薄膜混合積體電路工藝的研究》等。

獲得歐榮譽

1995年被貴州省國防工業工會和貴州省國防科技工業辦公室評為“1994年度企業走向市場立功競賽先進個人”榮譽。