,獲得適合工業化生產所需要的工程化共性、關鍵技術和具有市場競爭力的新產品,建設一流的技術創新開發與工程化隊伍,開展國際合作與交流,在相關領域獲得具有我國自主智慧財產權的新產品及工業化示範生產線,形成不斷創新的可持續發展能力,促進和推動我國無機功能材料產業的技術進步,提升相關行業的技術水平。
本中心的具體研究開發方向主要包括:
(1)半導體矽材料缺陷工程:系統研究晶體生長、晶體加工、外延生長和特種摻雜、金屬吸雜、缺陷控制等技術,開發超大規模積體電路用直拉矽單晶材料以及其它新型半導體材料,建立積體電路用矽材料產業化示範線及相應半導體材料工程研究基地。
(2)表面鍍膜技術:系統研究常壓CVD、MOCVD、PCVD等表面鍍膜工藝和大面積均勻鍍膜技術及裝備,開發新型陽光控制鍍膜玻璃、低輻射鍍膜玻璃、易潔鍍膜玻璃、太陽能玻璃、電磁禁止玻璃,建立相應的示範生產線、建設功能鍍膜玻璃產業化基地。
(3)溶膠-凝膠改性技術:研究溶膠-凝膠工藝過程機理、溶膠粒子形成及長大、溶膠精細結構及特性,開發納米改性電子陶瓷材料及器件、微波介質陶瓷及器件、鐵電/鐵磁複合材料,以及新型光觸媒自潔淨材料、納米改性生物材料、相變儲能保溫建築材料,建立相應的示範生產線,建設電子陶瓷及器件產業化基地和建築節能材料產業化基地。
(4)原位複合結構調控技術:系統研究分子工程、外場誘導調控等無機及無機-有機雜化功能材料原位修飾與結構調控技術,開發有機/無機複合發光材料、無機-有機雜化非線性光學材料、無機-有機雜化固態可調諧染料雷射介質、金屬-有機框架結構納米介孔功能材料、相變儲能保溫建築材料以及無機-有機雜化光催化材料,建立相應的示範生產線,建設相應的工程化基地。
中心建設總投資3500萬元,建築面積5500m2,人員95人。其中,基本建設費用總投入約2300萬元,包括實驗室用房1700m2,中試基地與辦公用房3800 m2及相關的裝置、裝備和研究設備;產品研發與工程化研究開發費用總投入1100萬元,主要用於項目科研開發、工程套用和中試線運行等。
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