磷酸鹽雷射釹玻璃

Al2O3：4-10； R2O(R＝Li，Na，K)：18-30； R2O(R＝Li，Na，K)：18-30

磷酸鹽雷射釹玻璃的組成範圍如下：氧化物：成分範圍(mol％)； P2O5：55-65； Al2O3：4-10； MO(M＝Mg，Zn)：7-15； R2O(R＝Li，Na，K)：18-30； R2O3(R＝B，La，Y，Sb，Nd)：2-3；本發明磷酸鹽雷射釹玻璃，具有高激受發射截面、低二階非線性折射率，能夠防止在高功率雷射裝置中能量密度很高時由非線性引起的雷射破壞，適用於高功率雷射裝置。
【 權利要求 】 一種磷酸鹽雷射釹玻璃，其特徵在於該玻璃的組成配方的範圍如下： 氧化物成份範圍(mol％) P2O555-65 Al2O34-10 MO(M＝Mg，Zn)7-15 R2O(R＝Li，Na，K)：18-30 R2O3(R＝B，La，Y，Sb，Nd)：2-3。