王曉東[江蘇大學機械工程學院教師]

王曉東，男，1986年生，蘇州常熟人，工學博士。 2014年畢業於西南交通大學機械設計及理論專業，獲得博士學位。 2014年至今在江蘇大學機械工程學院任教。

工作經歷

2014年 至今 江蘇大學 機械工程學院 任教

研究方向

微/納摩擦學；表面工程

學術成果

代表性SCI論文：

X.D. Wang, C.F. Song, B.J. Yu, L. Chen, L.M. Qian, Nanowear behaviour of monocrystalline silicon against SiO2 tip in water, Wear, 298–299 (2013) 80-86.

X.D. Wang, J.X. Yu, L. Chen, L.M. Qian, Z.R. Zhou, Effects of water and oxygen on the tribochemical wear of monocrystalline Si(100) against SiO2 sphere by simulating the contact conditions in MEMS, Wear, 271 (2011) 1681-1688.

L. Chen, H.T. He,X.D. Wang, S.H. Kim, L.M. Qian, Tribology of Si/SiO2 in Humid Air: Transition from Severe Chemical Wear to Wearless Behavior at Nanoscale, Langmuir, 31 (2015) 149-156.

J. Guo, B.J. Yu,X.D. Wang, L.M. Qian, Nanofabrication on monocrystalline silicon through friction-induced selective etching of Si3N4 mask, Nanoscale Research Letters, 9 (2014) 241.

1.

X.D. Wang

2.

X.D. Wang

3.

X.D. Wang

4.

X.D. Wang

申請/授權專利：

可套用於酸鹼環境中的原子力顯微鏡液下針尖支架，中華人民共和國實用新型專利，授權專利號：ZL201320639994.2；（第2發明人）

基於摩擦誘導選擇性刻蝕的氮化矽膜/矽微納米加工方法，中華人民共和國發明專利，申請號：201310732868.6；（第4發明人）

一種用於原子力顯微鏡的氣氛控制系統，中華人民共和國發明專利，申請號：201410009253.5。（第6發明人）

1.

可套用於酸鹼環境中的原子力顯微鏡液下針尖支架，中華人民共和國實用新型專利，授權專利號：ZL201320639994.2；（第2發明人）

2.

基於摩擦誘導選擇性刻蝕的氮化矽膜/矽微納米加工方法，中華人民共和國發明專利，申請號：201310732868.6；（第4發明人）

3.

一種用於原子力顯微鏡的氣氛控制系統，中華人民共和國發明專利，申請號：201410009253.5。（第6發明人）