相關詞條
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物理氣相沉積
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術表示在真空條件下,採用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、...
簡介 詳述 -
物理氣相沉積法
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition簡稱PVD) 是用物理的方法(如蒸發、濺射等)使鍍膜材料氣化,在基體表面沉積成膜的方法。...
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解離金屬電漿(IMP)物理氣相沉積技術
解離金屬電漿是最近發展出來的物理氣相沉積技術,它是在目標區與晶圓之間,利用電漿,針對從目標區濺擊出來的金屬原子,在其到達晶圓之前,加以離子化...,讓這些原子得以垂直的方向往晶圓行進,就像電漿蝕刻及化學氣相沉積製程...
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氣相沉積套用技術
專家。 從1976年至今一直從事物理氣相沉積技術的工藝原理探討、沉積... 物理氣相沉積技術 1 物理氣相沉積技術概論 1.1物理氣相沉積分類 1.2物理氣相沉積的特點 2 物理氣相沉積技術基礎...
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氣相沉積
氣相沉積,指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。
概念 CVD特點 作用分類 -
氣相沉積法
化學氣相沉積(CVD)是半導體工業中套用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術,包括大範圍的絕緣材料,大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說,它是很簡單的...
概述 分類 相關爭論 氣相法 沉澱法 -
真空沉積技術
真空沉積技術是真空鍍膜。 採用陰極弧方式沉積的塗層表面 -PECVD(電漿增強化學氣相沉積)形式
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合肥永信等離子技術有限公司
1、等離子增強磁控濺射技術在刀具上的套用 3、等離子增強磁控濺射技術在耐腐蝕領域的套用 4、等離子增強磁控濺射技術在模具上的套用
合肥永信等離子技術有限公司 -
中國航空製造技術研究院
中國航空製造技術研究院隸屬於中國航空工業集團公司,是專門從事航空與國防先進制造技術研究與專用裝備開發的綜合性研究機構,是2016年12月以北京航空製造工...
歷史沿革 科研條件 科研成就 人才培養 文化傳統