基本信息
書名：實用X射線光譜分析
封面編著：楊明太編著I SBN：9787502242664
出版社：原子能
2009-04-01 第1版
2009-04-01 第1次印刷
開 本：16開
字數：357千字
頁 數：222頁
類 別： 數理化學科 -> 數理化學科 -> 化學、晶體學
內容簡介
本書是介紹X射線光譜分析技術的綜合性參考書。本書共分三篇十一章，分別對X射線光譜分析的基本原理、X射線物理，X射線螢光光譜分析，全反射X射線螢光光譜分析，質子激發X射線光譜分析和電子探針顯微分析做了全面的介紹。講述了在實際套用中需掌握的基本理論和必要的數學公式，另外，還介紹了X射線光譜分析的常用分析方法和套用成果，簡述了該領域的新技術和新進展。本書從實際角度出發，不求內容的完備高深，但求簡潔實用為主要目的。本書可供從事X射線光譜分析的工作者使用，亦可為有關部門和儀器研製人員提供參考。
目錄
第一篇 X射線光譜分析基礎
第一章 X射線物理學基礎
§1.1 X射線光譜分析的發展簡史
§1.2 X射線
§1.3 X射線的產生
§1.4 X射線譜
§1.5 X射線與物質的相互作用
§1.6 X射線螢光強度的理論計算
參考文獻
第二章 X射線光譜分析概述
§2.1 術語
§2.2 X射線光譜分析的基本原理與特點
§2.3 X射線光譜儀的分類
§2.4 X射線光譜分析的現狀與發展
參考文獻
第三章 特徵X射線的激發
§3.1 概述
§3.2 X射線管激發
§3.3 放射源激發
§3.4 加速粒子激發
§3.5 不同激發方式的性能比較
參考文獻
第二篇 X射線螢光光譜分析
第四章 波長色散X射線螢光光譜分析
§4.1 概述
§4.2 X射線的波長色散(晶體分光)
§4.3 探測
§4.4 測量
§4.5 譜儀性能測試
§4.6 波長色散X射線螢光光譜儀現狀及其套用
參考文獻
第五章 能量色散X射線螢光光譜分析
§5.1 概述
§5.2 譜儀基本結構
§5.3 濾波選擇
§5.4 二次激發
§5.5 探測器
§5.6 能譜採集
§5.7 WDXRF譜儀與EDXRF譜儀的區別
§5.8 譜儀性能測試
§5.9 能量色散X射線螢光光譜儀的現狀及其套用
參考文獻
第六章 樣品製備
§6.1 概述
§6.2 固體塊樣的製備
§6.3 粉末樣的製備
§6.4 熔融樣的製備
§6.5 溶液樣的製備
§6.6 特殊樣品的製備
參考文獻
第七章 定性分析和半定量分析
§7.1 概述
§7.2 定性分析
§7.3 半定量分析
參考文獻
第八章 定量分析
§8.1 概述
§8.2 外標法
§8.3 內標法
§8.4 增量法
§8.5 數學校正法
§8.6 波長色散譜儀定量分析條件的設定
§8.7 能量色散譜儀定量分析條件的設定
§8.8 X射線螢光光譜定量分析中的不確定度
參考文獻
第三篇 其它X射線光譜分析
第九章 全反射X射線螢光光譜分析
§9.1 概述
§9.2 TXRF基本原理和裝置
§9.3 全反射X射線螢光光譜儀
§9.4 全反射X射線螢光分析的基本特點
§9.5 全反射X射線螢光光譜分析的套用與展望
參考文獻
第十章 電子探針顯微分析
§10.1 概述
§10.2 儀器構造與工作原理
§10.3 電子探針顯微分析儀的分析方法及套用
§10.4 電子探針顯微分析儀性能測試
參考文獻
第十一章 質子激發X射線光譜分析
§11.1 概述
§11.2 質子激發X射線光譜分析裝置
§11.3 質子靜電加速器
§11.4 PIXE真空分析靶室
§11.5 PIXE非真空分析裝置
§11.6 PIXE分析樣品製備
參考文獻
附錄
附錄1 K殼層臨界及激發能和K系特徵X射線能量
附錄2 K殼層I臨界吸收限和K系特徵X射線波長
附錄3 K系特徵X射線相對強度和K殼層螢光產額
附錄4 L殼層臨界激發能和L系特徵X射線能量
附錄5 L殼層臨界吸收限和L系特徵X射線波長
附錄6 L系特徵X射線相對強度和殼層平均螢光產額
附錄7 M系特徵X射線波長
附錄8 M系特徵X射線能量
