外來雜質

就是非區域內部的雜質。

清除

用於禁止從基片上的第一區域凸出的器件免受電漿影響、同時用電漿從基片上的不同區域去除外來雜質的設備和方法。所述設備包括至少一個凹陷，其被定位並定好尺寸以接收器件，以便器件被禁止而免受電漿的影響。所述設備進一步包括視窗，通過所述視窗，電漿去除外來雜質。所述方法通常包括去除外來雜質，同時禁止器件免受暴露於電漿的影響。