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測距光學系統
測距光學系統是通過測量光束在待測距離上往返傳播的時間來換算出距離的光學系統，其距離換算公式為：d=ct/2。由於雷射與其它光源相比，具備如下特點：探測距...
概述 雷射測距儀的分類 測距方法 脈衝雷射測距 相位式雷射測距儀 -
光電子技術[10]
光電子技術專業具有省財政支持的校內生產性實訓基地——光電子套用技術實訓基地，光電子技術專業承擔了教育廳創新人才培養改革試點項目，師資力量強，業務水平高。...
高職高專專業 光電子學發展 脈衝能量 圖書信息 學術期刊 -
波前編碼光學成像技術
光學成像技術是一門非常成熟的科學和技術，但迄今為止都約定俗成地認可了其中的一種技術限制，即景深及其對應的焦深的互相制約。加大光學系統的景深，一直是成像光...
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光刻技術
積體電路製造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發...
簡述 工藝流程 曝光系統 光抗蝕劑 基本步驟 -
半導體光刻技術
半導體光刻技術發展已有多半個世紀了，現在它仍保持著強勁的發展態勢，大尺寸、細線寬、高精度、高效率、低成本的IC生產，對半導體設備帶來前所未有的挑戰。
矽片直徑300mm 要適合多代技術的需求 光學曝光 當前曝光的主流技術 -
LCOS顯示技術
摘要 LCOS顯示是LCD與CMOS積體電路有機結合的反射型新型顯示技術，LCOS作為新型顯示器件具備大螢幕、高亮度、高解析度、省電等諸多優勢，其套用產...
前言 LCOS簡介 發展現狀 面臨課題 結論 -
紅外熱成像製冷技術
為使熱成像系統正常工作，將其探測器元件冷卻至低溫或深低溫的技術，又稱低溫恆溫器技術。該技術的主要任務有二點：一是通過製冷形成一個合適的低溫恆溫環境，以保...
【定義】 【相關技術】 【技術難點】 【國外概況】 【影響】 -
瞬態光學技術國家重點實驗室
瞬態光學技術國家重點實驗室，位於陝西省西安市友誼路的瞬態光學技術國家重點實驗室隸屬中國科學院西安光學精密機械研究所。該實驗室創建於1991年，其中有13...
概述 機構設定 學術委員會 研究方向 承擔項目 -
紅外熱像技術
為使熱成像系統正常工作，將其探測器元件冷卻至低溫或深低溫的技術，又稱低溫恆溫器技術。
【定義】 【技術難點】 【國外概況】 【影響】 -
聚焦離子束微納加工技術
《聚焦離子束微納加工技術》是2006年12月1日北京工業大學出版社出版的圖書，作者是顧文琪。
內容簡介 目錄
