精密離子均勻轟擊低溫離子滲硫
在 20 世紀八十年代，材料物理學家張弋飛在世界上首先發現，固體硫蒸氣產生輝光放電的效應，該效應使金屬零件在低溫下形成固體潤滑層—滲硫層。 這就是著名的“低溫離子滲硫”，它的全稱是金屬表面形成硫化物層的方法和設備，獲得了 中、英、德、法、瑞、意、日等多國專利。
至1997年底，低溫離子滲硫專利普通許可21家企業生產，取得廣泛的經濟效益和社會效益。
國內一些企業和科研單位聲稱開發出“離子滲硫”、“離子硫化”、“真空等離子滲硫”，或稱“國外引進”；三家企業被北京市中院判決侵權，一家被宣告實用新型專利無效；見侵權維權
實際上，離子滲硫只有一個能達到120微米滲層深度發明專利，，即“金屬表面形成硫化物層的方法和設備”專利。
