二氧化矽超音波清洗機

基SiO2 2、超音波除油清洗槽 3、超音波漂洗槽

簡介 

 二氧化矽是製造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料,是科學研究的重要材料。化學性質比較穩定。不溶於水也不跟水反應。是酸性氧化物,不跟一般酸反應。20世紀80年代末期,Si基SiO2光波導無源和有源器件的研究取得了長足的發展,隨著光通信及集成光學研究的飛速前進,玻璃薄膜光波導被廣泛套用於光無源器件及集成光路中。製備性能良好的用作光波導的薄膜顯得至關重要。為此,我們根據這一性質,利用超音波清洗原理,發明了二氧化矽超音波清洗機。

清洗原理 

 通過超音波高頻產生的“氣化現象”的衝擊和系統自身不停地作上下運動,增加了液體的摩擦,從而使工件表面的污垢能夠迅速脫落,實現其高清潔度的目的;有效去除二氧化矽表面污物的清洗系統,採用了最新IGBT控制模式、觸控螢幕操作模式,掃頻輸出,功率可調超音波清洗技術,使超音波輸出更均勻、清洗效率更高、範圍更寬、清洗效果更加徹底。整個清洗工藝由人工操作完成,共有5個清洗工位、1個離心甩乾工位.

清洗流程

 超音波清洗(洗劑)→超音波清洗(洗劑)→超音波純水清洗→超音波純水漂洗→超音波純水漂洗→離心甩乾;

清洗系統配置 

 1、超音波去膠清洗槽2、超音波除油清洗槽3、超音波漂洗槽4、離心甩5、拋動機構

清洗範圍 

 去除二氧化矽表面污物的清洗系統

產品型號

 VGT-609FSG手動式超音波清洗機

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