乾式足浴裝置

乾式足浴裝置包含有加熱恆溫裝置、介質容器、及足浴介質。該裝置採用一種具有高強度、優越滾動性、良好接觸感、永不磨損的陶瓷微珠作為介質，其吸熱快，散熱慢。其還具有使用方便、節水節能；避免細菌感染；可長時間、全方位進行乾式足部溫烤、按摩等諸多優點。

乾式足浴裝置

乾式足浴裝置，其包含有加熱恆溫裝置、介質容器、及足浴介質；該加熱恆溫裝置置於底部，其上置放導熱板，介質容器置於導熱板之上，該足浴介質置於該介質容器之內。該加熱恆溫裝置包含有承重底座、置放於該承重底座上的熱系統、以及用於控制熱系統溫度的控制系統。本實用新型採用一種具有高強度、優越滾動性、良好接觸感、永不磨損的陶瓷微珠作為介質，其吸熱快，散熱慢。在介質的底部採用多功能加熱恆溫裝置，溫度範圍可以在 30-200℃之間任意設定。其還具有使用方便、節水節能；避免細菌感染；可長時間、全方位進行乾式足部溫烤、按摩等諸多優點。

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