展會概括
2013中國電子工業清洗產品展覽會暨綠色清洗技術研討會2013年11月13～15日 上海新國際博覽中心
展會簡介
展會屬於第82屆中國電子展之專業展區，計畫每年兩屆：4月在深圳會展中心，11月在上海新國際博覽中心召開，為了提高本次展會的規模和國際影響力，展會將以“國際化、專業化、高層次”的會議要求，邀請歐美地區及亞洲地區的電子工業清洗產業巨頭，共同探討交流電子工業綠色清洗技術之發展機會，促進行業健康快速發展。2013中國電子工業清洗產品展覽會暨綠色清洗技術研討會的籌展工作已全面啟動，誠邀國內外電子製造清洗產業鏈各方面專業人士參展和參會，為促進電子製造清洗產業進步作出貢獻，期待與您在CEFC 2013現場相聚！
本次展會總體規模為60000平米，預計到會觀眾將達到50000人次，我們將全力邀請電子工業清洗行業的龍頭企業和相關科研單位等權威機構參與本次展會，展覽期間將同期舉行多項的全方位的技術交流活動，學術研討，務求全面配合展商多元化的宣傳策略，討論行業熱門話題。希望各相關單位積極參與，相信通過我們共同的努力，一定能將本展會打造成為行業內專業權威的國際盛會。
展會背景
清洗工藝是製造各類元器件和電路模組的關鍵支撐技術之一，是提高系統可靠性的基礎。近年來，微組裝技術、精密製造技術的迅速發展對清洗技術要求越來越高，與此同時，對節能減排、安全環保的要求也越來越嚴格，使開發環境友好的清洗技術成為當前和今後該領域研究和開發的重點課題。電子清洗技術（包括清洗劑和與之配套的清洗工藝）對電子工業，特別是對半導體工業生產是極為重要的。在半導體器件和積體電路的製造過程中，幾乎每道工序都涉及到清洗，而且積體電路的集成度愈高，製造工序愈多，所需的清洗工序也愈多。在諸多的清洗工序中，只要其中有一道工序達不到要求，則將前功盡棄，導致整批晶片的報廢。可以說如果沒有有效的清洗技術，便沒有今日的半導體器件、積體電路和超大規模積體電路的發展。
組織單位
主辦單位：中國電子器材總公司承辦單位：上海冠通展覽策劃有限公司中電會展與信息傳播有限公司
展示範圍
1.電子工業綠色清洗技術展示（包括超音波清洗技術、離心清洗技術、等離子清洗技術、紫外光清洗技術、超臨界二氧化碳清洗技術等）；2.各類電子元器件、電路板、半導體器件、積體電路、成品及半成品用清洗劑（包括各類酸鹼清洗液、各類有機溶劑清洗液及環保型電子清洗劑等）；
3.電子工業清洗設備（包括電子產品清洗機、超音波清洗機、半導體清洗機、積體電路清洗設備、各類水處理淨化設備及新型清洗設備等）。
報名程式
1、參展單位詳細填寫好《參展契約表》並加蓋公章，郵寄或傳真至組委會；2、報名後，參展單位必須在7個工作日內將相關費用匯入組委會指定賬戶；
3、展位安排以“先報名、先交款、先安排”為原則，組委會有權對少量展位予以調整；
4、展品運輸、展會接待、住宿等事宜將在開展前三個月組委會另行傳送參展商手冊。
