XRH加氫純化裝置

XRH加氫純化裝置

氮氣壓力:0.05~0.8MPa 露點:≤-40~-70℃ 氧含量:≤5ppm系統工藝流程圖

工作原理

本系列裝置採用催化脫氧+吸附乾燥方法,除去氮氣中的氧、水、二氧化碳和塵等雜質,獲得高純氮氣,普氮和加入的氮氣經靜態混合器充分混合後進入熱交換器,利用除氧塔出口熱量預熱入口氣,然後進入裝有高效加氫脫氧催化劑的脫氧塔,普氮中的氧雜質與氮氣發生化學反應生成水被除去;2H2+O2->2H20,同時放出大量熱量Q,1%含氧量發生反應時放熱大約可形成200℃溫度。接著經過熱交換器、高效冷卻器、高效油水分離器、冷乾機,精密過濾器除去大部分水分後,進入乾燥機脫除水和二氧化碳,最後經過氮氣緩衝罐由粉塵過濾器除去塵埃,獲得高純氮氣。

技術特點

1、本裝置適用於含氧量≤3%的氮氣和惰性氣體純化

2、加氫脫氧催化劑具有高空速高活性,常溫脫氧,使用前無需預處理,使用中不再需要兩再生,對硫化物(H2S、SO2)、氯化物(HC1、C12)、氨等毒物具有良好抗中毒性能,壽命達5年以上;

3、一般純淨氣體露點≤-4O℃。可滿足特殊用戶要求純淨氣體露點≤-60~-70℃;

4、平均每小時排放再生氣量為3~5%;

5、可做到不停機下可更換13X分子篩乾燥劑或進行大檢修操作;

6、一般純淨氣體含過氫量為1000~2000ppm,特殊用戶要求過氫量≤5ppm。

主要技術指標

氮氣流量:10~2000Nm³/h

氮氣純度:≥99.9995%

氮氣壓力:0.05~0.8MPa

露點:≤-40~-70℃

氧含量:≤5ppm

系統工藝流程圖

系統工藝流程圖系統工藝流程圖

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