名稱
X射線光電子能譜儀
簡單介紹
主要用途：XPS： 1.固體樣品的表面組成分析，化學狀態分析，取樣深度為～3nm 2.元素成分的深度分析（角分辨方式和氬離子刻蝕方式） 3.可進行樣品的原位處理 AES： 1.可進行樣品表面的微區選點分析（包括點分析，線分析和面分析） 2.可進行深度分析適合： 納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學，高分子材料的表面和界面研究 儀器類別：03030707 /儀器儀表 /成份分析儀器
指標信息：主真空室：1×1010乇 XPS： AES: 解析度：0.8cV 電子槍束斑：75nm 靈敏度：80KCPS 信噪比：大於70:1 角分辨：5°～90° 靈敏度：255KCPS A1/Mg雙陽極靶 能量解析度：0.3% 位置靈敏檢測器（PSD）
附屬檔案信息：XPS： 1.快速氬離子刻蝕槍 AES： 1.快速氬離子刻蝕槍 2.能量損失譜 ,
主要研究領域包括：（1）TiO2納米光催化以及在空氣和水淨化方面的套用；（2）汽車尾氣淨化催化劑新型金屬載體的研究；（3）納米藥物載體及靶向藥物的研究；（4）納米導電陶瓷薄膜材料的研究；（5）納米雜化超硬薄膜材料及摩擦化學的研究；（6）納米發光材料及納米分析化學研究；（7）有機電致發光材料的表面化學研究；（8）納米材料在香菸減毒淨化上的套用研究；（9）無機納米殺菌與抗菌材料及其在飲用水淨化上的作用；（10）電解水制氧電極材料的研究
