RTP 快速熱處理(rapid thermal processing),是一種升溫速度非常快的,保溫時間很短的熱處理方式。升溫速率能達到10~100攝氏度每秒。一般採用紅外鹵素燈或者電阻棒加熱,加熱時電流很大,功率很大。實驗室一般採用專門的RTP爐進行實驗。是半導體製造中的一道工藝,可以用於離子注入後的雜質快速激活、快速熱氧化等。此方法能大量節省熱處理時間和降低生產成本,是熱處理上的一次革新。
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快速退火工藝
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退火工藝簡介 快速退火工藝簡介 快速退火爐設備 快速退火爐套用領域 -
rta[“快速熱退火”縮寫]
RTA是將工件加熱到較高溫度,根據材料和工件尺寸採用不同的保溫時間,然後進行快速冷卻,目的是使金屬內部組織達到或接近平衡狀態,獲得良好的工藝性能和使用性能。
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擴散爐
)和快速熱處理(Rapid ThermalProcessing)具有同樣...。過去人們對RTP系統接受很慢,主要是因為注入退火和熱處理需要優良的溫...等電路轉接板以及設備總電源進線轉接板。快速熱擴散爐所謂“快速(Rapid...
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北京朗銘潤德光電科技有限公司
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北京朗銘潤德 公司簡介 產品目錄 -
半導體製造技術導論(第二版)
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簡介 目錄 -
晶片製造
反應爐7.5 立式反應爐7.6 快速升溫反應爐7.7 快速熱處理(RTP...
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