PIII

（ Plasma Immersion Ion Implantation）的簡稱。對於只有注入的稱為PIII。大量試驗表明離子注入對於改變材料表面的磨損腐蝕疲勞和摩擦特性，對於改變材料表面的電學與光學等特性是十分有效的。

PIII是電漿浸入離子注入（Plasma Immersion Ion Implantation）的簡稱。對既有注入又有薄膜生長的方式一般PIII&D；對於只有注入的稱為PIII。大量試驗表明離子注入對於改變材料表面的磨損腐蝕疲勞和摩擦特性，對於改變材料表面的電學與光學等特性是十分有效的。在離子注入過程中從離子源引出的離子，在高壓電場中被加速到高能狀態，這種高能離子束注入固體材料表面後和表面薄層中基體粒子相碰撞逐漸失去原有的能量，最後靜止在表面層中。這樣被注入元素的原子和表面層中基體原子相互作用生成新的化合物，形成新的金相組織結構從而改變材料表面的物理與化學性能。
PIII是Intel的奔騰III系列CPU的簡稱。