電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料,電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發,並成膜。電子槍有直射式、環型和e型槍之分。電子束加熱蒸鍍的特點是能獲得極高的能量密度,最高可達l09w/cm2,加熱溫度可達3000~6000℃,可以蒸發難熔金屬或化合物;被蒸發材料置於水冷的坩堝中,可避免坩堝材料的污染,製備高純薄膜;另外,由於蒸發物加熱面積小,因而熱輻射損失減少,熱效率高。但結構較複雜,且對較多的化合物,由於電子的轟擊有可能分解,故不適合多數化合物的蒸鍍。
電子束蒸鍍常用來製備Al、C0、Ni、Fe的合金或氧化物膜,Si02、Zr02膜,抗腐蝕和耐高溫氧化膜。