電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料，電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發，並成膜。電子槍有直射式、環型和e型槍之分。電子束加熱蒸鍍的特點是能獲得極高的能量密度，最高可達l09w/cm2，加熱溫度可達3000～6000℃，可以蒸發難熔金屬或化合物;被蒸發材料置於水冷的坩堝中，可避免坩堝材料的污染，製備高純薄膜;另外，由於蒸發物加熱面積小，因而熱輻射損失減少，熱效率高。但結構較複雜，且對較多的化合物，由於電子的轟擊有可能分解，故不適合多數化合物的蒸鍍。
電子束蒸鍍常用來製備Al、C0、Ni、Fe的合金或氧化物膜，Si02、Zr02膜，抗腐蝕和耐高溫氧化膜。
