名稱
雙面拋光機
用途
該設備主要適用於半導體矽片、磁性材料、藍寶石、光學玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的雙面高精度高效率的拋光加工。
主要特點
1、 該機採用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內齒圈；PLC調整設定控制；彩色NT顯示的人機界面系統。
2、 龍門箱形結構，配置大功率減速系統，軟啟動、軟停止，運轉平穩，拋光時間根據計時器可隨意設定，採用了自動供給拋光液裝置。
3、 與拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進行了特殊處理。
4、 通過精密稱重感測器與高精密的氣動控制系統聯合實現了壓力閉環反饋控制，確保了工件壓力的準確性。
5、 主要運動副採用了強制集中潤滑。
6、 拋光液系統具有獨立攪拌、循環水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測功能，各功能可選配製做。
技術參數
1、 拋光拖動電機：5.5KW 380V 1440rpm。
2、 太陽輪拖動電機：2.2KW 380V 1440rpm。
3、 上拋盤規格：φ630mm×φ240mm×30mm。
4、 下拋盤規格：φ630mm×φ240mm×30mm。
5、 遊輪參數：公制Z=114 M=2。
6、 遊輪數量：5片。
7、 最小拋光厚度：0.4mm/φ75mm。
8、 最大拋光厚度：100mm。
9、 下拋盤轉速範圍：0—50rpm。
10、 需配備空氣源壓力：0.5—0.6Mpa
11、 下拋盤的端面跳動量：≤0.04mm。
12、 下拋盤的平面度：0.015 mm。
13、 設備外形尺寸：（長×寬×高）1400mm×1200mm×2400mm。
14、 重量： 約2800kg。
15、 承片量：單盤：4片/φ75 mm、3片/φ100 mm
5盤：20片/φ75 mm、15片/φ100 mm
