陰極電弧源

陰極電弧源

1.真空系統 6.加熱系統 10.控制系統

空陰極電弧源沉積技術發展的概況
上世紀80年代推廣真空陰極電弧鍍TiN,很快席捲全球,90年代掀起了陰極電弧鍍膜熱,成為硬質保護膜生產主流技術,廣泛套用在工具鍍、裝試鍍和特殊功能鍍膜領域。
真空陰極電弧沉積,俗稱多弧鍍。
優點:離化率高,離子流密度大,離子流能量高,沉積速率快,膜基結合力好,利用固體靶材,沒有熔池,靶材可以任意位置安裝以保證鍍膜均勻,可以沉積金屬膜、合金膜,也可以反應鍍合成各種化合物膜(氮化物、碳化物、氧化物),甚至可以合成DLC膜、cnx膜等,設備操作簡單,技術易於推廣。美中不足的是,在沉積時,從靶材表面飛濺出微細顆粒,在所鍍膜層中冷凝使膜層粗糙度增加。
廣泛用於塗鍍刀具、模具的超硬保護層,膜系包括TiN、ZrN、TiAlN、TIC、TiCN、CrN、DLC等,鍍層產品包括鑽頭、銑刀、齒輪刀具、絲錐、剪刀、切刀、頂頭、沖模等。
裝飾膜系包括TiN、ZrN、TiAlN、TIC、TiCN、CrN等等,鍍膜產品包括表件、日用五金件、衛浴潔具、建築五金件、表殼、錶帶、小飾品、不鏽鋼板等等,彩色膜除仿金色外,還有槍黑、烏黑、玫瑰金、棕色、藍色、綠色、灰色、銀色以及幻彩等等。
北京丹普表面技術有限公司陰極電弧設備

陰極電弧設備見右圖(來自北京丹普表面技術有限公司)
1.真空系統 2.陰極電弧蒸發源 3.偏壓系統 4.供氣系統 5.節流閥系統
6.加熱系統 7.測溫系統 8.工件轉架系統 9.冷卻水系統 10.控制系統

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