銅納米線介紹
銅納米線可以用在透明電極、光電子器件等方面，是繼銀納米線後有一個選擇。
銅納米線類型
直徑：40nm
長度：50微米
純度：97%
溶劑：正己烷
濃度：10毫克/毫升
制膜後需要退火，退火條件，200度，升溫速度2度/分鐘，保溫2h,之後自然降溫。
銅納米線的方法與流程
在現代納米科學技術領域中，銅納米線由於具有獨特的光學、電學、力學和熱學性質而成為製備透明柔性導電電極的優良材料。銅價格低廉，銅的導電性僅僅比銀低6％，而其儲量比銀豐富1000倍，價格僅僅是銀或ITO的1％左右，自然存儲量較大，是實際套用中替代貴金屬的理想材料，有可能代替ITO和銀納米線。
如何製備單分散、穩定的銅納米線也成為該領域的研究熱點。在各種製備銅納米線的方法中，液相還原法不僅可以解決以上問題，且該方法具有製備條件限制少、成本低、簡單易行等優點而被廣泛套用於銅納米線的大量合成。例如申請號為201110144380.2的專利文獻公開了單晶銅納米線製備方法，將二價金屬銅鹽溶液和乙二胺混合後水浴加熱形成單一、穩定的銅離子螯合物，將強鹼溶液和水合肼混合後在同一溫度水浴下配成還原劑；然後將這兩種混合溶液轉入反應容器中，充分搖勻後蓋好，置於同一溫度水浴中加熱反應，製備銅納米線；將漂浮在溶液上層的片狀銅納米線打撈出來，依次用去離子水和無水乙醇洗滌三次以上，在室溫和Ar氣保護條件下乾燥即得銅納米線。
又例如申請號為201210323822.4的專利文獻公開了使用貴金屬作為催化劑，100℃～200℃下反應2～20小時生成平靜直徑60nm的銅納米線；申請號為201410346038.4的專利文獻公開了100℃～150℃下使用油浴，得到直徑為30～70nm的銅納米線。
上述現有技術，為了製成膜以後的透光率和導電率，需要銅納米線具有優良的長徑比，工業生產中，繁瑣的工藝和成本也是十分重要的。所以，在保證銅納米線品質優良的前提下，去簡化工藝，減少成本在柔性電極材料研究方面有著重要的研究意義。
