納米氧化鋁拋光液

納米氧化鋁拋光液適用於光學鏡頭、單芯光纖連線器、微晶玻璃基板、晶體表面、寶石、金屬製品、半導體材料、塑膠、磁帶、等方面的精密拋光。

納米氧化鋁拋光液
產品特徵：
SHNL系列納米氧化鋁拋光質量穩定，粒度可控，顆粒度分布集中，並具有以下特點：
軟硬度適中、不劃傷被拋物面。
懸浮性好，不易沉澱，使用方便。
分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。
適用領域：
適用於光學鏡頭、單芯光纖連線器、微晶玻璃基板、晶體表面、寶石、玻璃製品、金屬製品、半導體材料、塑膠、磁帶、打磨帶等方面的精密拋光。
技術指標：
項 目 指 標
外觀 白色液體
主要晶相 α相
平均粒度(D：50 nm) 50-200
濃度（wt％） 20-40
納米氧化鋁純度(%) ≥99.8
備註：以上也可根據用戶需要不同濃度和不同粒度而調整。
注意事項：
1．以防少許沉澱，建議使用前先搖勻。
2．使用時，以不同濃度並據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調製不同濃度。
儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結塊，在0℃以下因產生不可再分散結塊而失效。
包 裝：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或據客戶要求。