相關詞條
-
真空磁控濺射技術
熱陰極和輔助陽極,就構成直流三極濺射。增加的熱陰極和輔助陽極產生的熱電子增...控制,不受電壓影響。在熱陰極的前面增加一個電極(柵網狀),構成四極濺射...
原理 特點 分類 方法 存在問題 -
三極型濺射
熱陰極直流濺射(三極型濺射)hotcathodedirectcurrentsputtering:藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。 ...
-
真空鍍膜[李雲奇編著圖書]
放電225低氣壓非自持熱陰極弧光放電226低氣壓自持冷陰極弧光...加熱式蒸發源314空心熱陰極電漿電子束蒸發源315感應加熱式...24濺射薄膜的特點及濺射方式525直流濺射鍍膜526磁控濺射...
-
真空科學與技術叢書:真空鍍膜
2.2.5低氣壓非自持熱陰極弧光放電2.2.6低氣壓自持冷陰極弧光...加熱式蒸發源3.1.4空心熱陰極電漿電子束蒸發源3.1.5...過程5.2.4濺射薄膜的特點及濺射方式5.2.5直流濺射鍍膜...
內容簡介 圖書目錄 序言