簡介
具有兩個（或一個）光學測量平面的正圓柱形或長方形的量規。光學測量平面是表面粗糙度數值和平面度誤差都極小的玻璃平面，它能夠產生光波干涉條紋（見雷射測長技術）。平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用於測量高光潔表面的平面度誤差，為用平面平晶檢驗量塊測量面的平面度誤差。平行平晶的兩個光學測量平面是相互平行的，用於測量兩高光潔表面的平行度誤差，例如千分尺兩測量面的平行度誤差.平晶用光學玻璃或石英玻璃製造。圓柱形平面平晶的直徑通常為 45～150毫米。其光學測量平面的平面度誤差為:1級精度的為0.03～0.05微米；2級精度的為0.1微米。常見的長方形平面平晶的有效長度一般為200毫米。
國家標準
JJG28-2000 成都威博恩快速檢驗標準用途
平行平晶是用於以干涉法測量塊規，以及檢驗塊規、量規、零件密封面、測量儀器及測 平晶量工具量面的研合性和平面度的 常用工具。
適用於光學加工廠、廠礦企業計量室、精密加工車間、閥門密封面現場檢測使用，也適用於高等院校、科學研究等單位做平面度等檢測。
規格
1、平面平晶 YDF-1 標準外形尺寸 單位：mm規格30 45 60 80 100 150 200 250
直徑30 45 60 80 100 150 200 250
高度15 15 20 20 25 30 40 45 平晶
特殊規格尺寸平面平晶,環形平面平晶,方形平面平晶可定做.
2、平面平晶製成兩種精度： 1級 和 2級
3、平面平晶工作面的平面度偏差允許值為：
直徑為 30至60mm 1級平晶 0.03μm
直徑為 30至60mm 2級平晶 0.1 μm
直徑為 80至150mm 1級平晶 0.05μm
直徑為 80至150mm 2級平晶 0.1 μm
更大尺寸平面平晶平面度偏差允許值，根據國家標準。
4、平面平晶工作面的局部偏差允許值為： 0.03μm
5、平面平晶測量工作應在室溫2 0℃±3℃條件下保持數小時後進行。
測量方法
平晶是利用光波干涉現象測量平面度誤差的，故其測量方法稱為平晶干涉法（圖2）,也稱技術光波干涉法。測量時,把平晶放在被測表面上,且與被測表面形成一個很小的楔角 θ，以單色光源照射時會產生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關。如入射光線垂直於被測表面，且平晶與被測表面間的間隙很小,則由平晶測量面P反射的光線與被測表面反射的光線在測量面 P發生干涉而出現明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現彩色干涉條紋。如干涉條紋平直，相互平行,且分布均勻,則表示被測表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲，則表示平面度不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)λ為光波波長，白光的平均波長為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。
