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濺射工藝
濺射工藝是以一定能量的粒子（離子或中性原子、分子）轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。
定義 原理 參考書目 -
二極濺射鍍膜
二極濺射鍍膜是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬於物理氣相沉積（PVD）製備...
原理簡介 發展套用 -
真空磁控濺射技術
原理濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產生的電漿在電場的作用下，對陰極靶材表面進行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成...
原理 特點 分類 方法 存在問題 -
射頻濺射
吸引正離子轟擊靶材，從而實現濺射。由於在靶上會形成負偏壓，所以射頻濺射裝置...離子對其產生自發的轟擊和濺射，而在襯底上自偏壓效應很小，氣體離子對其產生...產生自偏壓效應，達到對靶材的轟擊濺射，並沉積在襯底上；自發產生負偏壓...
簡介 射頻濺射的基本原理 特點 套用 -
薄膜技術與薄膜材料
沉積10.4離子束混合第11章 濺射鍍膜11.1離子濺射11.2濺射鍍膜方式11.3磁控濺射源11.4濺射鍍膜的實例第12章 化學氣相沉積...242.1.3 吸附泵292.1.4 濺射離子泵302.1.5 升華泵322.1.6...
圖書信息1 圖書信息2 -
物理氣相沉積
蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。濺射鍍膜基本原理是充氬(Ar)氣的真空...離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料製作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。如果採用直流輝光放電，稱直流(Qc)濺射，射頻(RF)輝光...
簡介 詳述 -
磁控濺射
濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流...濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生...運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。 種類磁控濺射包括很多種類。各有不同...
原理 種類 濺射技術 磁控濺射設備的主要用途 -
薄膜技術與薄膜材料[2011年清華大學出版社出版圖書]
且超微細孔中的埋入2628.2.7 RF-DC結合型偏壓濺射... 油封機械泵202.1.2 擴散泵242.1.3 吸附泵292.1.4 濺射...捕集1084.7.3 自偏壓1094.8 低壓力、高密度電漿放電...
圖書信息 內容簡介 目錄 -
輝光放電加熱
輝光放電電漿中，不可能建立陰極靶表面的負偏壓，不可能產生濺射。將兩個...產生濺射。 電容耦合型射頻(RF)放電電極自給偏壓的形成，可以防止絕緣層...的陰極接靶電源負極，陽極接靶電源正極，進入正常濺射時，一定是在氣體放電伏...
簡介 分析 直流輝光放電 脈衝直流輝光放電 交流輝光放電
