LED UV光刻光源

光刻技術在半導體積體電路製造工藝中無論是從資金、技術、人員來看,有著舉足輕重的地位,積體電路技術的發展始終是隨著光學光刻技術的不斷創新所推進的,晶片光譜覆蓋紫外全波段265nm 280nm 310nm 340nm 365nm 375nm 385nm 395nm 405nm,LED UV光刻光源在積體電路製造領域我們進行了長期的探索和研究,研製開發了系列光刻光源產品,線上性精密掃描曝光和面形整體曝光領域已得到套用,在積體電路製造領域我們進行了長期的探索和研究,研製開發了系列LED UV光刻光源產品,線上性精密掃描曝光和面形整體曝光領域已得到套用,隨著研究進一步深入,LED UV光刻光源會更加完善。
LED UV光刻光源產品優勢:
1、LED UV光譜集中、能量集中
2、專利光學配光,保證光照均勻
3、大功率晶片集成,保證紫外能量充足
4、冷光源照射,熱輻射很小
5、即開即關、無需預熱
6、設計簡潔易集成
7、LED使用壽命長,耗電少,維護和運營成本更低
8、不含汞成分,環保低碳

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