氣體工業名詞,由金屬孔板,絲網編織物或高分子材料製成膜的過濾器。它利用濾膜孔的攔截效應將大於濾膜孔徑的粒子攔截在膜的表面上。過濾效率高,可除掉0101Lm的塵埃和金屬粒子。可用作半導體氣體分配系統的終端過濾裝置。典型裝置的最高工作壓力為5MPa(37℃),最高工作溫度120℃,氣流速度34Lmin(21℃),壓力差410kPa。其包裝應在100級潔淨室內進行,以雙層袋包裝。內袋用純氮氣吹洗乾淨。整體進行氦漏試驗,氦漏率應為1027atmmLs。
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電子氣體
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簡介 發展趨勢 系統 -
實驗室純水系統
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實驗室超純水系統
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超純水介紹 實驗室純水機工作原理 實驗室超純水系統特點 實驗室超純水系統工藝 -
超純水設備
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雷射切割機
切割。雷射光束配上高純惰性切割氣體促使熔化的材料離開割縫,而氣體本身不參...的焦點,使焦點處達到高的功率密度,其中切割頭固定在z軸上。這時,光束輸入...的是飛行光路系統。從雷射發生器發出的光束經過反射鏡1、2、3到達切割頭上...
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