雙並聯MZ調製器偏置控制方法與裝置

"引【申請日】2011-04-06【公開號】CN102201868A【公開日】2011-09-28【申請人】烽火通信科技股份有限公司【地址】430074 湖北省武漢市東湖開發區關東科技園東信路5號【發明人】張璋;楊寧;李玲;龍熙平;陳德華【專利代理機構】北京捷誠信通專利事務所(普通合夥) 11221【代理人】魏殿紳;龐炳良【國省代碼】42【頁數】16【主分類號】H04B10/155【專利分類號】H04B10/155;G02F1/01摘要本發明公開了一種雙並聯MZ調製器的偏置控制方法與裝置


【申請日】
2011-04-06


【公開號】

CN102201868A

【公開日】

2011-09-28

【申請人】

烽火通信科技股份有限公司

【地址】

430074 湖北省武漢市東湖開發區關東科技園東信路5號

【發明人】

張璋;楊寧;李玲;龍熙平;陳德華

【專利代理機構】

北京捷誠信通專利事務所(普通合夥) 11221

【代理人】

魏殿紳;龐炳良

【國省代碼】

42

【頁數】

16

【主分類號】

H04B10/155

【專利分類號】

H04B10/155;G02F1/01

摘要
本發明公開了一種雙並聯MZ調製器的偏置控制方法與裝置,方法包括步驟:將DPMZ輸出的光電流轉化為電壓信號分成兩路,進行低通濾波和高通濾波,得DPMZ輸出平均光強和輸出光強的低頻RF分量;將時間分成連續若干組時隙,每組時隙包括時隙1、2、3;在時隙1、2中控制兩個MZ型調製器的偏置1、2,使DPMZ輸出平均光強最大,則偏置1、2處最佳狀態;採用對數RF檢波器檢測DPMZ輸出光強的低頻RF分量的功率,用直流電壓Vrf表示,在時隙3中通過控制位延遲器的偏置3改變相位延遲,使Vrf最小,則偏置3處最佳狀態。本發明能提高DPMZ中兩個MZ型調製器和相位延遲器的偏置控制精度,降低電路的複雜度和成本。

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