中心介紹
微納研究與製造中心是中國科學技術大學”十二五”規劃重點建設工程之一。中心自2010年通過建設規劃，2012年5月開工建設，2013年12月主體建設竣工。中心於2014年3月正式揭牌成立投入試運行，為中國科技大學公共實驗中心之一。
特色與運行：
微納研究與製造中心由占地1000m 的微納淨化實驗室和200m 的微納表徵實驗室組成，並具備配套廠務設施。微納研究與製造中心擁有百級潔淨間（ISO14644標準5級）500m ，並具有淨化等級升級空間。中心已投入7000餘萬元採購國內外微納加工、製造與表征裝備60餘台。
目標與使命潔淨室概況
微納研究與製造中心淨化實驗室總建築面積3664m²，主體結構為二層，一層為潔淨室，二層為輔助層（機械泵房、空調機房等）為微納研究與製造中心設備提供水電氣供給及檢測；潔淨室採用垂直式層流換氣系統，採用“工藝區-灰區”式潔淨室結構，可有效控制潔淨度；潔淨室備的水處理系統，可提供18.2MΩ超純水；微納研究與製造中心提供矽烷、氨氣等22種特種氣體供給及檢測，液氮站集中供給5N（普氮）及最高9N的超純氮，可有效保障工藝及安全。微納研究與製造中心配備柴發及不間斷供電系統保障電力供給，配備專業的尾氣及廢液處理系統，保障潔淨室排放達標。微納研究與製造中心設有24小時實時參數監控，保證中心安全運行。
潔淨度ISO14644標準5級: 450m²；ISO14644 6級標準: 450m²；
振動： 微震等級 ；
溫度： 22℃±0.5℃ （ISO14644標準5級區域）；
22℃±1℃ （ISO14644 6級標準區域）；
22℃±0.1℃ （電子束光刻房間）；
22℃±0.28℃ （掩模製版間）；
濕度： 45%±5%（ISO14644 5級標準區域）；
45%±10%（ISO14644 6級標準區域）；
微納研究與製造中心工藝設備
微納研究與製造中心現有工藝設備及表征儀器60餘台，分為圖形發生，薄膜製備，材料刻蝕，封裝解析，表征測試和通用設備四大類，具體列表如下：
微納研究與製造中心部分設備參數電子束光刻機 ；
聚焦離子束 ；
冷場掃描電鏡；
紫外光刻機；
納米壓印 ；
無掩模光刻機 ；
分步投影光刻機 ；
反應離子刻蝕機 ；
蒸發HF刻蝕；
深矽刻蝕；
金屬刻蝕機；
金屬ICP刻蝕機松下；
濕法刻蝕系統；
電漿去膠機；
電漿增強化學氣相沉積；
微波等離子化學氣相沉積；
快速熱處理；
氧化爐及；
離子束鍍膜機 ；
原子層沉積 ；
電子束蒸發鍍膜；
濺射鍍膜；
反射式光譜膜厚儀；
光譜型橢圓偏振儀；
散射式掃描近場光學顯微鏡；
台階儀；
半導體參數分析儀；
探針台；
探針式表面輪廓儀；
掃描電鏡鍍膜儀；
離子束減薄制樣；
桌面電鏡；
原子力顯微鏡；
晶圓鍵合；
引線鍵合；
研磨機；
雷射開封機；
劃片清洗機；
晶圓劃片機；
金剛石手動劃片；
勻膠機，熱板，通風櫥，透反射式顯微鏡以及濕法清洗和顯影系統等通用設備。
學術報告
與科研產出
微納研究與製造中心自2014年投入使用至今，微納研究與製造中心組織了涉及微納製造領域的相關技術，納米光學，量子超導晶片，柔性器件以及石墨烯新能源等微納交叉學科的學術報告。報告專家均為國內外知名專家學者，如美國普渡大學葉培德教授，中國科學技術大學陸朝陽教授等。
微納研究與製造中心現支撐中國科學技術大學校內數十個重點課題組，如潘建偉院士課題組，郭光燦院士課題組，杜江峰院士課題組等。產出的科研成果被國際知名期刊如 Nature communications等收錄。
對外開放
依照《中國科學技術大學公共實驗中心建設運行管理辦法》指導，微納研究與製造中心已加入中國科學院大型儀器區域中心網路管理系統。擴大開放共享範圍，為周邊科研院所的科研活動和地方經濟發展提供技術支撐。
