1992年,日本名古屋大學的K.Mohri教授等在CoFeSiB軟磁非晶絲中發現了巨磁阻抗(GMI)效應,其阻抗變化率△Z/Z0在幾Oe磁場作用下可達50%,比金屬多層膜Fe/Cu或Co/Ag在低溫且高磁場強度下觀察到的巨磁電阻效應高一個數量級。由於巨磁阻抗(GMI)效應具有靈敏度高、反應快和穩定性好等特點,所以其在感測器技術和磁記錄技術中具有巨大的套用潛能,特別是研製靈敏度高、穩定性好、低功耗、微型化的磁敏感測器。此後,人們在非晶薄膜、玻璃包裹非晶絲材料、納米晶合金帶材料中相繼發現了巨磁阻抗效應。
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