作品目錄
第1章 晶體成長和晶圓製作第2章 磊晶沉積設備
第3章 微影照相設備
第4章 化學氣相沉積爐
第5章 氧化擴散高溫爐
第6章 離子植入機
第7章 乾蝕刻機
第8章 蒸鍍機
第9章 濺鍍機
第10章 化學機械研磨
乾蝕刻機第8章 蒸鍍機第9章 濺鍍機第10章
概述英特爾45納米高K半導體製程技術英特爾45納米高K半導體製程...製作具有高K特性的柵極絕緣層,是半導體行業的重要創新。英特爾的65納米製程...10年繼續有效。 隨著英特爾45納米半導體製程技術揭開神秘面紗,一系列...
概述 發展 技術優勢 高K-金屬柵極和45納米有什麼關係 酷睿處理器從性能到節能半導體( semiconductor),指常溫下導電性能介於導體(conductor)與絕緣體(insulator)之間的材料。半導體在收音機、電視機以...
定義 分類 相關短語 發展歷史 特點電晶體(transistor)是一種固體半導體器件,具有檢波、整流、放大、開關、穩壓、信號調製等多種功能。電晶體作為一種可變電流開關,能夠基於輸入電壓控...
定義 簡述 歷史 發展 里程碑半導體技術是指半導體加工的各種技術,包括晶圓的生長技術、薄膜沉積、光刻、蝕刻、摻雜技術和工藝整合等技術。
技術概念 半導體納米技術 製程技術的挑戰 材料問題 進步快速的主因《半導體行業》是由中國半導體行業協會主管的中國半導體行業主導刊物,其宗旨是服務於中國半導體產業,促進業界多方面多領域的交流與合作,共同諦造中國半導體產業...
簡述 辦刊宗旨 組織機構 雜誌欄目設定 雜誌發行板塊→ → →
主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕製程設備的設計、研發、生產及銷售;同時代理半導體、太陽能、FPD領域其它國外設備,負責其中國市場的開發、推廣; 公司...
《積體電路製程簡論》是2009年12月清華大學出版社出版的圖書,作者是田民波。
圖書信息 內容簡介 圖書目錄互補性氧化金屬半導體CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)和CCD一樣同為在掃瞄器中可記錄光線變化的...
發展歷史 CMOS套用 微電子學中的CMOS 數位相機領域 媒介研究方法