低壓純化器

低壓純化器（Low Pressure Purifier）
氣體工業名詞，在低壓下脫除氣體中雜質的裝置。在半導體工業中，低壓純化器用於線上純化氮，氫，氧，氬，氦及某些品種的電子特種氣體。目前，純化後雜質含量可達1029級，有的甚至達10212級。70年代，世界積體電路製造廠所用的純化器以觸媒方式為主，由於觸媒的改進和新觸媒的開發，新型純化裝置不斷湧現。目前所用吸附劑主要是各種分子篩；催化劑有Ni型，Pd型，Pt型；也有採用鋯型吸氣劑的。一般純化器入口壓力015MPa，出口壓力為014MPa，處理氣量多為012～300m3h。