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濺射工藝
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。
定義 原理 參考書目 -
物理氣相沉積
,然後沉積在基體表面上,蒸發的方法常用電阻加熱,高頻感應加熱,電子束...蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。濺射鍍膜基本原理是充氬(Ar)氣的真空...離子在電場力的作用下,加速轟擊以鍍料製作的陰極靶材,靶材會被濺射出來而沉...
簡介 詳述 -
離子源
。如果採用高頻離子源,只要把引出電極的孔道加長,就能得到負離子束。濺射型...濺射以及表面電離過程都能產生離子,並被引出成束。根據不同的使用條件和用途...稱為弧源高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的,也有廣泛的用途。新型...
離子源 離子源的類型 離子源的套用-離子束 離子束的主要參數 加速離子束的裝置