中文名稱
孿生靶磁控濺射
定 義
將雙向交變電壓施加於磁控濺射兩個相鄰的靶上的磁控濺射。
套用學科
材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科）
相關詞條
-
磁控濺射
磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用於製備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有...
原理 種類 濺射技術 磁控濺射設備的主要用途 -
真空磁控濺射技術
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱，使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。 設定一個與靶面電場正交的磁場，濺射時產生的快電子在...
原理 特點 分類 方法 存在問題 -
輝光放電加熱
很多。 雙極性脈衝中頻靶電源一般帶孿生靶或雙靶運行。兩個靶的工作電壓極性...，這就是“湯生放電”的基本過程，又稱為小電流正常輝光放電。 ④磁控靶的陰極接靶電源負極，陽極接靶電源正極，進入正常濺射時，一定是在氣體放電伏...
簡介 分析 直流輝光放電 脈衝直流輝光放電 交流輝光放電 -
真空鍍
是一種多功能、高效率的鍍膜設備。可根據用戶要求配置旋轉磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈衝疊加式偏壓電源等，組態靈活、用途廣泛，主要...技術，是國內外最先進的磁控濺射鍍膜技術，靶材利用率達到70～80%以上...
簡介 套用 -
物理氣相沉積
弧離子鍍與磁控濺射兼容技術，大型矩形長弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶，孿生靶技術，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術，條狀纖維織物卷繞鍍層技術等，使用...離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料製作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉...
簡介 詳述 -
遵化富森鈦金設備有限公司
。主要產品包括：多弧（電弧）離子鍍、孿生對靶、中頻磁控濺射、直流（IP）磁控濺射、蒸發鍍、光學鍍 膜、太陽能集熱管鍍膜、硬質合金、工具、模具、超硬材料...了陰極靶材表面氣隙場範圍，增大了靶材被刻蝕濺射的面積，提高靶材的利用率和均勻...
-
楊兵[武漢大學動力與機械學院材料系教授]
平衡磁控濺射鍍鋁膜性能研究及套用，橫向合作，貴州航天精工製造有限公司...
