多源蒸鍍

合金或化合物蒸鍍時,由於組元的固有蒸發速率不同,得到的膜成分往往與蒸鍍材料不同,而且隨著蒸鍍時間的延長,在厚度方向膜層的成分也將發生變化,得不到成分均勻的膜層。 多源蒸鍍就是在製備由兩種以上元素構成的合金或化合物膜時,將組成元素分別裝入各自的蒸發源中,獨立控制各蒸發源的蒸發速率,使到達基片的原子與所需合金或化合物膜的組成相對應,則能製得滿足成分要求的薄膜。

合金或化合物蒸鍍時,由於組元的固有蒸發速率不同,得到的膜成分往往與蒸鍍材料不同,而且隨著蒸鍍時間的延長,在厚度方向膜層的成分也將發生變化,得不到成分均勻的膜層。多源蒸鍍就是在製備由兩種以上元素構成的合金或化合物膜時,將組成元素分別裝入各自的蒸發源中,獨立控制各蒸發源的蒸發速率,使到達基片的原子與所需合金或化合物膜的組成相對應,則能製得滿足成分要求的薄膜。

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