合金或化合物蒸鍍時,由於組元的固有蒸發速率不同,得到的膜成分往往與蒸鍍材料不同,而且隨著蒸鍍時間的延長,在厚度方向膜層的成分也將發生變化,得不到成分均勻的膜層。多源蒸鍍就是在製備由兩種以上元素構成的合金或化合物膜時,將組成元素分別裝入各自的蒸發源中,獨立控制各蒸發源的蒸發速率,使到達基片的原子與所需合金或化合物膜的組成相對應,則能製得滿足成分要求的薄膜。
相關詞條
-
真空鍍
真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型,它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到...
簡介 套用 -
物理氣相沉積
廣泛的套用。真空蒸鍍基本原理是在真空條件下,使金屬、金屬合金或化合物蒸發...、雷射束、離子束高能轟擊鍍料,使蒸發成氣相,然後沉積在基體表面,歷史上,真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。濺射鍍膜基本原理是充氬(Ar)氣的真空...
簡介 詳述 -
光無源器件
光無源器件是光纖通信設備的重要組成部分,也是其它光纖套用領域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性、穩定性、機械耐磨性和抗腐蝕性、易於操...
簡介 品種 方法 結論 原理 -
無源器件
無源器件是微波射頻器件中重要的一類,在微波技術中占有非常重要的地位。無源器件主要包括電阻,電容,電感,轉換器,漸變器,匹配網路,諧振器,濾波器,混頻器和開關等。
器件種類 主要設備 發展方向 相關區別 -
離子鍍
。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法...是真空鍍膜工藝的一項新發展。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時,工件夾固在真空罩內,當高溫蒸發源通電加熱後,促使待鍍材料——蒸發料熔化蒸發。由於溫升...
簡介 重要性 發展歷程 原理過程 特點 -
薄膜技術與薄膜材料
工作間第9章 真空蒸鍍9.1概述9.2鍍料的蒸發9.3蒸發源9.4蒸發源的蒸氣發射特性與基板配置9.5蒸鍍裝置及操作9.6合金膜的蒸鍍9.7化合物膜的蒸鍍9.8脈衝雷射熔射(PLA)9.9分子束外延技術第10章 離子鍍...
圖書信息1 圖書信息2 -
詩詞律韻探微
60篇多發表於《河南日報》、《河南教育》、《中國教育理論版》、《周口...探微》、《杏壇文絮》、《林泉齋詩詞》。現存詩詞作品近千首,有200多篇...
-
真空鍍膜
或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中,以塑膠最為...鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑膠程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可大大...坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑膠等基片置於坩堝...
基本介紹 蒸發鍍膜 濺射鍍膜 離子鍍 參考書目 -
薄膜技術與薄膜材料[2011年清華大學出版社出版圖書]
1555.9 電遷移156習題158第6章 真空蒸鍍1596.1 概述1596.2 鍍料的蒸發1606.2.1 飽和蒸氣壓1606.2.2 蒸發粒子的速度...1666.3.1 電阻加熱蒸發源1666.3.2 電子束蒸發源1706.4 蒸發源...
圖書信息 內容簡介 目錄