卡魯塞爾2000氧化溝

卡魯塞爾2000氧化溝是1967年由荷蘭的DHV公司開發研製。它的研製目的是為滿足在較深的氧化溝溝渠中使混合液充分混合，並能維持較高的傳質效率，以克服小型氧化溝溝深較淺，混合效果差等缺陷。實踐證明該工藝具有投資省、處理效率高、可靠性好、管理方便和運行維護費用低等優點。Carrousel氧化溝使用立式表曝機，曝氣機安裝在溝的一端，因此形成了靠近曝氣機下游的富氧區和上游的缺氧區，有利於生物絮凝，使活性污泥易於沉降，設計有效水深4.0－4.5米，溝中的流速0.3米/秒。BOD5的去除率可達95%－99%，脫氮效率約為90%，除磷效率約為50%，如投加鐵鹽，除磷效率可達95%。Carrousel氧化溝是一個完全混合曝氣池，其濃度變化係數極小甚至可以忽略不計，進水將迅速得到稀釋，因此它具有很強的抗衝擊負荷能力。

但對於氧化溝中的某一段則具有某些推流式的特徵，即在曝氣器下游附近地段DO濃度較高，但隨著與曝氣器距離的不斷增加則DO濃度不斷降低（出現缺氧區）。這種構造方式使缺氧區和好氧區存在於一個構築物內，充分利用了其水力特性，達到了高效生物脫氮的目的。